[实用新型]集成电路静电防护的二极管触发可控硅有效

专利信息
申请号: 201821632602.9 申请日: 2018-10-09
公开(公告)号: CN208848907U 公开(公告)日: 2019-05-10
发明(设计)人: 董树荣;徐泽坤;沈宏宇;郭维;胡涛 申请(专利权)人: 浙江大学昆山创新中心
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/74
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 董建林
地址: 215347 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种集成电路静电防护的二极管触发可控硅,包括第一衬底,第一衬底上设置有依次连接的第一N阱、第一P阱和第二N阱,第一N阱上设置有第一P+注入区和第一N+注入区,第一P+注入区接入电学阳极,第一P阱上设置有第二P+注入区和第二N+注入区,第二P+注入区连接第一N+注入区,第二N阱上设置有第三N+注入区,第三N+注入区和第二N+注入区均接入电学阴极。本实用新型触发电压小,鲁棒性高,导通电阻小,可以对集成电路进行有效的ESD防护。
搜索关键词: 注入区 集成电路 本实用新型 二极管触发 静电防护 电学 可控硅 衬底 阴极 触发电压 导通电阻 依次连接 阳极 鲁棒性
【主权项】:
1.集成电路静电防护的二极管触发可控硅,其特征在于:包括第一衬底,第一衬底上设置有依次连接的第一N阱、第一P阱和第二N阱,第一N阱上设置有第一P+注入区和第一N+注入区,第一P+注入区接入电学阳极,第一P阱上设置有第二P+注入区和第二N+注入区,第二P+注入区连接第一N+注入区,第二N阱上设置有第三N+注入区,第三N+注入区和第二N+注入区均接入电学阴极。
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