[实用新型]一种掩膜版的防尘保护结构

摘要

本实用新型涉及半导体器件的加工工艺技术领域，公开了一种掩膜版的防尘保护结构，包括掩膜版、保护膜和框架，框架由多根首尾相连的边框构成，每根边框包括两个相互平行的第一面和第二面，所有边框的第一面共面组成框架的第一支撑面，所有边框的第二面共面组成框架的第二支撑面，框架的第一支撑面支撑在掩膜版上，保护膜支撑在框架的第二支撑面上，保护膜和框架围成的空间覆盖掩膜版的图案区域，边框的位于框架内侧的面设有沿边框长度方向布置的内凹的弧形槽。本实用新型在边框上设置内凹的弧形槽，使边框容易产生形变来吸收保护膜的部分张力，从而降低甚至消除对复制到晶片上的图案的效果的影响。

主权项

1.一种掩膜版的防尘保护结构，包括掩膜版、保护膜和用于固定保护膜的框架，掩膜版上设有图案区域，其特征在于，所述框架由多根首尾相连的边框构成，每根所述边框包括两个相互平行的第一面和第二面，所有所述边框的所述第一面共面组成所述框架的第一支撑面，所有所述边框的所述第二面共面组成所述框架的第二支撑面，所述框架的所述第一支撑面支撑在所述掩膜版上，所述保护膜支撑在所述框架的所述第二支撑面上，所述保护膜和所述框架围成的空间覆盖所述掩膜版的所述图案区域，所述边框的位于所述框架内侧的面设有沿所述边框长度方向布置的内凹的弧形槽。