[实用新型]一种用于硅电池的二氧化硅膜在线生成系统有效
申请号: | 201821606787.6 | 申请日: | 2018-09-29 |
公开(公告)号: | CN208862007U | 公开(公告)日: | 2019-05-14 |
发明(设计)人: | 崔水炜;万肇勇;黄登强;吴章平 | 申请(专利权)人: | 苏州昊建自动化系统有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 朱静谦 |
地址: | 215000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供的一种用于硅电池的二氧化硅膜在线生成系统,包括:臭氧供给系统,用于供给适量浓度的臭氧和空气混合气体;喷淋装置,位于生产线的硅片成型和氮化硅膜生成步骤之间,所述喷淋装置与所述臭氧供给系统相连,所述硅片至于所述喷淋装置内,表面与臭氧反应形成二氧化硅膜。从而实现在原有硅电池的氮化硅膜内增设二氧化硅膜,从而实现降低电位诱导衰减的效果,且该系统可实现在线生产,使生产效率更高。 | ||
搜索关键词: | 二氧化硅膜 喷淋装置 硅电池 臭氧供给系统 氮化硅膜 在线生成 硅片 空气混合气体 本实用新型 臭氧反应 电位诱导 生产效率 生成步骤 在线生产 臭氧 衰减 成型 增设 | ||
【主权项】:
1.一种用于硅电池的二氧化硅膜在线生成系统,其特征在于,包括:臭氧供给系统,用于供给适量浓度的臭氧和空气混合气体;喷淋装置,位于生产线的硅片成型和氮化硅膜生成步骤之间,所述喷淋装置与所述臭氧供给系统相连,所述硅片至于所述喷淋装置内,表面与臭氧反应形成二氧化硅膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州昊建自动化系统有限公司,未经苏州昊建自动化系统有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201821606787.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种氧化喷淋装置
- 下一篇:一种光伏薄膜生产加工冷却装置
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的