[实用新型]活动式并能形成交错纹路和提升支撑力的基板有效
| 申请号： | 201821603019.5 | 申请日： | 2018-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN209261137U | 公开（公告）日： | 2019-08-16 |
| 发明（设计）人： | 林志滨 | 申请（专利权）人： | 林志滨 |
| 主分类号： | E04F15/024 | 分类号： | E04F15/024;E04F15/18;E04F15/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张宇园 |
| 地址： | 中国台湾新北市板桥区华*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种活动式并能形成交错纹路和提升支撑力的基板，用于设置在一个支撑脚架上，并供至少一个板片安装于其上。该基板上具有至少一个第一区域以及至少一个与该第一区域沿一个第一方向相邻设置的第二区域。该基板的周缘向外凸设有多个环绕在该第一区域与该第二区域外侧的支撑臂，且该支撑臂的高度高于该基板的高度。当多个该基板相邻排列时，使该板片在该基板上形成有相互交错的纹路，并利用这些支撑臂增加对该板片的支撑力。 | ||
| 搜索关键词： | 基板 第一区域 支撑臂 支撑力 板片 第二区域 交错纹路 活动式 纹路 相邻排列 相邻设置 支撑脚架 外凸 交错 环绕 | ||
【主权项】：
1.一种活动式并能形成交错纹路和提升支撑力的基板，其特征在于，该基板上包含有：至少一个第一区域；以及至少一个第二区域，与该第一区域沿一个第一方向相邻设置；其中，该基板的周缘分别向外凸设有多个支撑臂，这些支撑臂环绕在该第一区域与该第二区域的外侧，且这些支撑臂的高度高于该基板的高度。
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