[实用新型]一种半导体器件有效

专利信息
申请号: 201821568214.9 申请日: 2018-09-25
公开(公告)号: CN208690234U 公开(公告)日: 2019-04-02
发明(设计)人: 陈亮;刘威;甘程;吴昕 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: H01L21/762 分类号: H01L21/762
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 党丽;王宝筠
地址: 430074 湖北省武汉市东湖*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提供一种半导体器件,在器件结构之间形成了隔离区,该隔离区包括第一隔离、第二隔离以及第一隔离和第二隔离之间反掺杂区,该反掺杂区与器件结构的源漏区具有相反的掺杂类型,通过包含有反掺杂区的隔离区,起到提高器件之间隔离效果的目的,该隔离区尤其适用于提高高压器件的隔离效果。该器件结构在提高器件隔离效果的同时,有利于进一步降低器件间的尺寸,提高器件集成度,且不会对器件的其他性能造成影响,提高器件之间的隔离效果以及器件性能。
搜索关键词: 隔离区 隔离效果 器件结构 掺杂区 隔离 半导体器件 本实用新型 器件集成度 掺杂类型 高压器件 降低器件 器件隔离 器件性能 源漏区
【主权项】:
1.一种半导体器件,其特征在于,包括:半导体衬底;所述衬底上的第一器件结构,所述第一器件结构包括第一栅极以及第一栅极两侧的第一源漏区,所述第一源漏区具有第一掺杂类型;相邻第一器件结构之间的衬底中的隔离区,所述隔离区包括:一第一器件结构侧的第一隔离、另一第一器件结构侧的第二隔离,以及第一隔离和第二隔离之间的衬底中的反掺杂区,所述反掺杂区具有第二掺杂类型。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长江存储科技有限责任公司,未经长江存储科技有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201821568214.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top