[实用新型]一种溅射镀膜阴极系统有效
| 申请号： | 201821531010.8 | 申请日： | 2018-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN209227050U | 公开（公告）日： | 2019-08-09 |
| 发明（设计）人： | 王策;李先林;吕勇 | 申请（专利权）人： | 华夏易能（海南）新能源科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 | 代理人： | 陈超 |
| 地址： | 570216 海南省海口市南海*** | 国省代码： | 海南;46 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种溅射镀膜阴极系统，包括：旋转磁体、固定磁体和屏蔽罩；所述屏蔽罩一侧设置有开口，且所述旋转磁体和所述固定磁体设置在所述屏蔽罩内部。该系统可以消除靶材端部拐弯处刻蚀非常严重，而中部区域却相对刻蚀较浅的现象，进而提高靶材利用率；可以减少实际应用中由于磁场分布的不均匀造成靶材的刻蚀区域的不均匀性问题，从而提高靶材利用率；还可以提高镀膜层均匀性，从而提高产品质量；还具有结构简单、可靠性高、成本低等优势。 | ||
| 搜索关键词： | 屏蔽罩 靶材利用率 固定磁体 溅射镀膜 旋转磁体 阴极系统 靶材 刻蚀 不均匀性 磁场分布 刻蚀区域 中部区域 不均匀 镀膜层 拐弯处 均匀性 开口 应用 | ||
【主权项】：
1.一种溅射镀膜阴极系统，其特征在于，包括：旋转磁体(1)、固定磁体(2)和屏蔽罩(3)；所述屏蔽罩(3)一侧设置有开口，且所述旋转磁体(1)和所述固定磁体(2)设置在所述屏蔽罩(3)内部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华夏易能（海南）新能源科技有限公司，未经华夏易能（海南）新能源科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201821531010.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种新型真空镀膜机
- 下一篇：一种新型磁控溅射装置
- 同类专利
- 专利分类
