[实用新型]抛光垫有效
| 申请号： | 201821474268.9 | 申请日： | 2018-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN209036276U | 公开（公告）日： | 2019-06-28 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 袁礼君;阚梓瑄 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本公开提出一种抛光垫，具有抛光表面，抛光表面上设有多个研磨槽。定义一参考平面，参考平面垂直于研磨槽的延伸方向，研磨槽的槽腔在参考平面上的正投影呈倒梯形。本公开提出的抛光垫的研磨槽的槽口宽度大于槽底宽度，使得抛光过程中存在于研磨槽中的杂质较容易被去除，从而改善研磨缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨槽 参考平面 抛光表面 抛光垫 抛光过程 抛光 研磨 倒梯形 正投影 槽口 槽腔 去除 垂直 延伸 | ||
【主权项】：
1.一种抛光垫，具有抛光表面，所述抛光表面上设有多个研磨槽，其特征在于，定义一参考平面，所述参考平面垂直于所述研磨槽的延伸方向，所述研磨槽的槽腔在所述参考平面上的正投影呈倒梯形。
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