[实用新型]一种薄片类介质处理装置有效
| 申请号： | 201821441200.0 | 申请日： | 2018-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN208747228U | 公开（公告）日： | 2019-04-16 |
| 发明（设计）人： | 张大伟;王萧玮;于悦生;孙建宇 | 申请（专利权）人： | 山东新北洋信息技术股份有限公司 |
| 主分类号： | B65H3/06 | 分类号： | B65H3/06 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 胡彬 |
| 地址： | 264203 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及薄片类介质处理领域，公开了一种薄片类介质处理装置，该薄片类介质处理装置包括壳体，其上设有介质仓和输送通道，介质仓用于存放薄片类介质，输送通道用于输送薄片类介质，且沿薄片类介质的输送方向，介质仓位于输送通道的上游；介质处理机构，位于输送通道中且用于对薄片类介质进行处理；第一支撑件，位于介质仓和输送通道的入口之间，第一支撑件用于支撑并引导薄片类介质进入入口；挡件，一端与第一支撑件连接，另一端沿垂直于第一支撑件的方向延伸，挡件被配置为使薄片类介质仅能沿第一支撑件的支撑侧进入入口，挡件的设置避免了薄片类介质从第一支撑件的非支撑侧进入入口，从而导致第一支撑件的支撑失效的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 薄片类介质 支撑件 输送通道 介质仓 处理装置 挡件 支撑 本实用新型 方向延伸 介质处理 非支撑 壳体 垂直 上游 配置 | ||
【主权项】：
1.一种薄片类介质处理装置，其特征在于，包括：壳体(1)，设有介质仓(121)和输送通道(122)，所述介质仓(121)用于存放薄片类介质，所述输送通道(122)用于输送所述薄片类介质，且沿薄片类介质的输送方向，所述介质仓(121)位于所述输送通道(122)的上游；介质处理机构(2)，设置于所述输送通道(122)且用于对所述薄片类介质进行处理；第一支撑件(3)，位于所述介质仓(121)和所述输送通道(122)的入口(123)之间，所述第一支撑件(3)用于支撑并引导所述薄片类介质进入所述入口(123)；挡件(4)，一端与所述第一支撑件(3)连接，另一端沿垂直于所述第一支撑件(3)的方向延伸，所述挡件(4)被配置为使所述薄片类介质仅能沿所述第一支撑件(3)的支撑侧进入所述入口(123)。
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