[实用新型]一种薄片类介质处理装置有效
| 申请号: | 201821441200.0 | 申请日: | 2018-09-04 |
| 公开(公告)号: | CN208747228U | 公开(公告)日: | 2019-04-16 |
| 发明(设计)人: | 张大伟;王萧玮;于悦生;孙建宇 | 申请(专利权)人: | 山东新北洋信息技术股份有限公司 |
| 主分类号: | B65H3/06 | 分类号: | B65H3/06 |
| 代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
| 地址: | 264203 山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 薄片类介质 支撑件 输送通道 介质仓 处理装置 挡件 支撑 本实用新型 方向延伸 介质处理 非支撑 壳体 垂直 上游 配置 | ||
1.一种薄片类介质处理装置,其特征在于,包括:
壳体(1),设有介质仓(121)和输送通道(122),所述介质仓(121)用于存放薄片类介质,所述输送通道(122)用于输送所述薄片类介质,且沿薄片类介质的输送方向,所述介质仓(121)位于所述输送通道(122)的上游;
介质处理机构(2),设置于所述输送通道(122)且用于对所述薄片类介质进行处理;
第一支撑件(3),位于所述介质仓(121)和所述输送通道(122)的入口(123)之间,所述第一支撑件(3)用于支撑并引导所述薄片类介质进入所述入口(123);
挡件(4),一端与所述第一支撑件(3)连接,另一端沿垂直于所述第一支撑件(3)的方向延伸,所述挡件(4)被配置为使所述薄片类介质仅能沿所述第一支撑件(3)的支撑侧进入所述入口(123)。
2.根据权利要求1所述的薄片类介质处理装置,其特征在于,所述第一支撑件(3)上设有限位槽(31),所述挡件(4)设有挂钩,所述挂钩位于所述限位槽(31)中,且与所述第一支撑件(3)套接。
3.根据权利要求2所述的薄片类介质处理装置,其特征在于,所述挡件(4)呈U形,所述第一支撑件(3)上沿其轴向间隔设有两个所述限位槽(31),所述挡件(4)的U形结构的两端均设有所述挂钩,两个所述挂钩分别位于两个所述限位槽(31)中且均与所述第一支撑件(3)套接。
4.根据权利要求1所述的薄片类介质处理装置,其特征在于,所述壳体(1)设有定位槽(128),所述挡件(4)远离所述第一支撑件(3)的一端和所述定位槽(128)插接。
5.根据权利要求1所述的薄片类介质处理装置,其特征在于,所述第一支撑件(3)上沿长度方向间隔设置有多个所述挡件(4)。
6.根据权利要求1所述的薄片类介质处理装置,其特征在于,所述壳体(1)的两侧上均设置有第一导向槽(126),所述第一支撑件(3)的两端分别与所述第一导向槽(126)插接,所述薄片类介质处理装置还包括第一弹性件(7),所述第一弹性件(7)的一端与所述第一支撑件(3)连接,另一端与所述壳体(1)连接,所述第一弹性件(7)被配置为使所述第一支撑件(3)始终具有沿所述第一导向槽(126)移动以张紧所述薄片类介质的运动趋势。
7.根据权利要求1所述的薄片类介质处理装置,其特征在于,所述薄片类介质处理装置还包括第二支撑件(8),沿所述薄片类介质的输送方向,所述第二支撑件(8)位于所述第一支撑件(3)和所述介质处理机构(2)之间。
8.根据权利要求1所述的薄片类介质处理装置,其特征在于,所述壳体(1)包括位于所述输送通道(122)两侧的两个侧壁(125),所述侧壁(125)上设有用于防磨损的金属件(6),所述金属件(6)至少部分凸出于所述侧壁(125)且伸入所述输送通道(122)内。
9.根据权利要求8所述的薄片类介质处理装置,其特征在于,两个所述侧壁(125)上均设置有多个所述金属件(6),且两个所述侧壁(125)上的所述金属件(6)的数量相等,并且位置一一对应。
10.根据权利要求1-9任一项所述的薄片类介质处理装置,其特征在于,所述介质处理机构(2)包括打印组件(21)、切纸组件(22)、扫描组件和读写磁组件中的至少一种。
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