[实用新型]一种晶硅太阳能电池刻蚀水膜匀膜装置

摘要

本实用新型涉及一种晶硅太阳能电池刻蚀水膜匀膜装置，包括超声波雾化器，导流管道，分流管道，喷淋管道；导流管道与超声波雾化器的雾化气体出口连通，分流管道与导流管道连通，多个喷淋管道均与分流管道连通，每个喷淋管道的出口端均设有无驱动匀流扇，该无驱动匀流扇包括通过螺丝固定于喷淋管道的三叉支架和与三叉支架连接的轴承，轴承上还连接有多个曲条状匀流扇叶片，多个曲条状匀流扇叶片以轴承为中心均匀分布且可绕轴承旋转。本实用新型利用超声波雾化后的水分子在无驱动匀流扇的驱动下均匀覆盖到硅片表面，预先湿润硅片表面，在之后水膜喷淋时保证硅片表面均匀、完全被水膜覆盖，避免出现因水膜覆盖不均匀造成的返工和降级。

主权项

1.一种晶硅太阳能电池刻蚀水膜匀膜装置，其特征在于包括超声波雾化器(1)，导流管道(2)，分流管道(8)，喷淋管道(7)；所述的导流管道(2)与超声波雾化器的雾化气体出口连通，分流管道(8)与导流管道(2)连通，喷淋管道(7)有多个，均与分流管道(8)连通，每个喷淋管道(7)的出口端均设置有无驱动匀流扇(3)，该无驱动匀流扇包括三叉支架(5)、轴承(6)及多个曲条状匀流扇叶片(4)，三叉支架(5)的一端通过螺丝固定于喷淋管道(7)的管壁，另一端与轴承(6)连接，轴承(6)上还连接有多个曲条状匀流扇叶片(4)，多个曲条状匀流扇叶片以轴承(6)为中心均匀分布且可绕轴承(6)旋转；所述的多个曲条状匀流扇叶片是位于三叉支架的内侧，该三叉支架的内侧是指位于三叉支架靠近喷淋管道内部的一侧；该匀膜装置设置于原刻蚀工序水膜喷淋工位的水膜喷淋装置(9)之前，距离水膜喷淋装置10cm‑15cm，且该匀膜装置位于硅片(10)正上方，且喷淋管道(7)的出口端距离硅片(10)表面的垂直距离为20‑40mm。