[实用新型]一种线性电磁执行元件掩模有效
申请号: | 201821284818.0 | 申请日: | 2018-08-10 |
公开(公告)号: | CN208721977U | 公开(公告)日: | 2019-04-09 |
发明(设计)人: | 刘飞豹;刘浩雨 | 申请(专利权)人: | 景瓷精密零部件(桐乡)有限公司 |
主分类号: | G03F1/48 | 分类号: | G03F1/48 |
代理公司: | 嘉兴启帆专利代理事务所(普通合伙) 33253 | 代理人: | 李伊飏 |
地址: | 314000 浙江省嘉兴市桐*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种线性电磁执行元件掩模,包括掩模板,掩模板的底部设置有硅晶片,掩模板的顶部设置有芯片,芯片的上表面设置有光栅格,掩模板的上表面涂覆有防尘涂料,防尘膜的下表面设置有保护膜玻璃晶片的下表面设置有抗反射膜,抗反射膜的下表面设置有铬膜。本实用新型在掩模板的上表面设置有防尘涂料和保护膜,可对掩模板进行有效保护,同时防尘涂料为聚硅氧烷聚合物材料制作而成,能有效对掩模板进行防尘,保护膜由硅橡胶高分子聚合物材料制作而成具有极好的防潮性,同时具有极好的韧性,能加强掩模板的强度,在铬的表面涂覆一层抗反射膜,极大减少了铬的反射性,既增强了掩模板的实用性也提高了安全性。 | ||
搜索关键词: | 掩模板 防尘 抗反射膜 上表面 下表面 涂料 线性电磁 保护膜 硅橡胶 高分子聚合物材料 聚硅氧烷聚合物 芯片 保护膜玻璃 本实用新型 表面涂覆 顶部设置 光栅 反射性 防潮性 防尘膜 硅晶片 铬膜 晶片 涂覆 掩模 制作 | ||
【主权项】:
1.一种线性电磁执行元件掩模,包括掩模板(1),其特征在于,所述掩模板(1)的底部设置有硅晶片(2),所述掩模板(1)的顶部设置有芯片(3),所述芯片(3)的上表面设置有光栅格(4),所述掩模板(1)的下表面涂覆有第一防尘涂料(9),所述第一防尘涂料(9)的下表面安装有第一保护膜(5),所述第一保护膜(5)的下表面设置有玻璃晶片(6),所述玻璃晶片(6)的下表面设置有抗反射膜(7),所述抗反射膜(7)的下表面设置有铬膜(8),所述铬膜(8)的下表面安装有第二保护膜(10),所述第二保护膜(10)的下表面涂覆有第二防尘涂料(11)。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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