[实用新型]一种硅晶片烘干设备有效
| 申请号： | 201821218214.6 | 申请日： | 2018-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN208861938U | 公开（公告）日： | 2019-05-14 |
| 发明（设计）人： | 山世清;黎弈夆 | 申请（专利权）人： | 江苏晶睿光电科技有限公司;黎弈夆 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/687 |
| 代理公司： | 北京一格知识产权代理事务所(普通合伙) 11316 | 代理人： | 徐文 |
| 地址： | 226500 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种硅晶片烘干设备，包括一烘干箱体，所述烘干箱体的侧端固定连接有气缸，且气缸的上端铰接有与烘干箱体上端配合的顶盖；所述一侧的顶盖的中部对称设有卤素灯，且位于卤素灯的侧部的顶盖上还对称设有连通烘干箱体的氮气源进口，且所述氮气源进口还与氮气源装置连通；所述烘干箱体的内部底端中心设有旋转支撑座，所述旋转支撑座上设有硅晶片放置架，且旋转支撑座通过电机驱动旋转。本实用新型的优点在于：本实用通过卤素灯电加热，进行热辐射，并结合低流量的氮气，氮气均化热辐射，使烘干箱内的硅晶片的受热均匀，并提高了烘干效率；此外，使放置在烘干箱内的硅晶片能够旋转，提高各部分与热源的接触面积，大大保证烘干的均一性。 | ||
| 搜索关键词： | 烘干箱体 硅晶片 旋转支撑座 顶盖 卤素灯 烘干 氮气 本实用新型 烘干设备 氮气源 热辐射 上端 气缸 连通 对称 氮气源装置 电机驱动 烘干效率 受热均匀 低流量 电加热 放置架 均一性 热源 侧端 底端 铰接 均化 进口 配合 保证 | ||
【主权项】：
1.一种硅晶片烘干设备，其特征在于：包括一烘干箱体，所述烘干箱体的侧端固定连接有气缸，且气缸的上端铰接有与烘干箱体上端配合的顶盖；所述一侧的顶盖的中部对称设有卤素灯，且位于卤素灯的侧部的顶盖上还对称设有连通烘干箱体的氮气源进口，且所述氮气源进口还与氮气源装置连通；所述烘干箱体的内部底端中心设有旋转支撑座，所述旋转支撑座上设有硅晶片放置架，所述旋转支撑座通过电机驱动旋转，且烘干箱体底端设有一与烘干箱体连通的废气出口。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
