[实用新型]氮化钛气相沉淀装置覆盖环部件洗净溶射专用遮蔽治具有效
| 申请号： | 201821175676.4 | 申请日： | 2018-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN208517516U | 公开（公告）日： | 2019-02-19 |
| 发明（设计）人： | 朱光宇;陈智慧;张正伟;李泓波;贺贤汉 | 申请（专利权）人： | 富乐德科技发展（大连）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/06 |
| 代理公司： | 大连智高专利事务所(特殊普通合伙) 21235 | 代理人： | 盖小静 |
| 地址： | 116600 辽宁省大连市保税区*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种氮化钛气相沉淀装置覆盖环部件洗净溶射专用遮蔽治具，属于洗净溶射遮蔽技术领域，包括治具本体，所述治具本体为具有厚度的圆环状结构，其结构分为三层，包括由内向外设置的内遮蔽台、中间定位台和外遮蔽台，所述内遮蔽台和中间定位台之间设有凹槽；所述内遮蔽台上设置有与待洗净溶射部件相配合的卡槽；本实用新型能够大幅度提高溶射范围的精度，且不会在待洗净溶射部件被覆盖的表面留下残胶，污垢等副产物。 | ||
| 搜索关键词： | 遮蔽 洗净 本实用新型 沉淀装置 治具本体 氮化钛 定位台 覆盖环 射部件 治具 圆环状结构 由内向外 副产物 污垢 残胶 三层 覆盖 配合 | ||
【主权项】：
1.一种氮化钛气相沉淀装置覆盖环部件洗净溶射专用遮蔽治具，其特征在于，包括治具本体(5)，所述治具本体(5)为具有厚度的圆环状结构，其结构分为三层，包括由内向外设置的内遮蔽台(3)、中间定位台(2)和外遮蔽台(1)，所述内遮蔽台(3)和中间定位台(2)之间设有凹槽(4)；所述内遮蔽台(3)上设置有与待洗净溶射部件(6)相配合的卡槽(10)。
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