[实用新型]一种新型制备薄膜的装置有效
| 申请号： | 201821026804.9 | 申请日： | 2018-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN208701194U | 公开（公告）日： | 2019-04-05 |
| 发明（设计）人： | 韩伟丹 | 申请（专利权）人： | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/24;C23C14/50 |
| 代理公司： | 北京天驰君泰律师事务所 11592 | 代理人： | 孟锐 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种制备薄膜的装置。制备薄膜的装置包括：溅射室，用于生成金属前驱物；蒸发室，用于将蒸发的所述金属前驱物镀至基板上形成薄膜；以及基板承载装置，位于蒸发室中，用于承载所述基板；其中，所述溅射室与所述蒸发室相连通，所述基板承载装置朝向所述溅射室。本实用新型的新型制备薄膜的装置及方法，装置简单，操作方便，结合磁控溅射法和共蒸发法等多种方法的优势，既实现靶源成分比例控制，从而获得分布更均匀、具有更优Ga梯度的CIGS薄膜，提高电池转换效率，又减少单一共蒸发法中蒸发耗能，提高材料的利用率，同时可实现高速率沉积镀膜。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 制备 溅射室 蒸发室 基板承载装置 本实用新型 金属前驱物 共蒸发 基板 蒸发 成分比例控制 电池转换效率 磁控溅射法 靶源 镀膜 耗能 沉积 承载 | ||
【主权项】：
1.一种制备薄膜的装置，其特征在于，包括：溅射室，用于生成金属前驱物；蒸发室，用于将蒸发的所述金属前驱物镀至基板上形成薄膜；以及基板承载装置，位于蒸发室中，用于承载所述基板；其中，所述溅射室与所述蒸发室可相连通，所述基板承载装置朝向所述溅射室。
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