[实用新型]一种反应腔及MOCVD系统

摘要

本实用新型涉及半导体材料制造设备领域，公开了一种反应腔及MOCVD系统，包括气体输送装置、托盘和加热装置，所述气体输送装置设在反应腔的腔顶，所述托盘上侧设有衬底，所述托盘下侧设有隔离罩，反应腔的底部设有透光腔底，所述加热装置设在所述透光腔底的外侧，反应腔的腔壁设有排气管路。将加热装置设置在反应腔外侧，简化了反应腔内部构造，降低制造成本，透光腔底与加热装置配合，保证对托盘提供足够的热量，加热装置外置，维护便捷，同时，有效防止反应物附着在加热装置上腐蚀加热装置，加热温度均匀，保证产品质量，提高加热装置的使用寿命。

主权项

1.一种反应腔，其特征在于，包括气体输送装置、托盘和加热装置，所述气体输送装置设在反应腔的腔顶，所述托盘上侧设有衬底，所述托盘下侧设有隔离罩，反应腔的底部设有透光腔底，所述加热装置设在所述透光腔底的外侧，反应腔的腔壁设有排气管路。