[实用新型]一种清洗装置

摘要

本实用新型公开了一种应用于CMP研磨设备的清洗装置，包括固定基座、立柱、调节滑座、调节支杆和喷水部件，调节滑座上设有第一通孔，立柱贯穿第一通孔竖直设置在固定基座上；调节滑座上设有一左右贯通的第二通孔，调节支杆贯穿第二通孔水平设置在调节滑座上；调节支杆的顶端边沿开设有上下贯通的第三通孔，喷水部件贯穿第三通孔固定安装在调节支杆上；立柱上开设有第一进水接口和出水接口，调节支杆的上开设有第二进水接口，调节支杆内部为中空结构，进水管依次通过第一进水接口、出水接口和第二进水接口最终从第三通孔引出并连接喷水部件，本实用新型能够有效清洗CMP研磨设备，解决了因设备清理不及时固体研磨液掉落刮伤晶圆的问题。

主权项

1.一种清洗装置，应用于化学气相沉积的研磨设备中；其特征在于，包括一固定基座、一连接进水管的立柱、一调节滑座、一调节支杆和一喷水部件，所述调节滑座上开设有一第一通孔，所述立柱贯穿所述第一通孔竖直设置在所述固定基座上，所述调节滑座可以在所述立柱上上下滑动；所述调节滑座上还开设有一左右贯通的第二通孔，所述调节支杆贯穿所述第二通孔水平设置在所述调节滑座上；所述调节支杆的顶端边沿还开设有一上下贯通的第三通孔，所述喷水部件贯穿所述第三通孔并通过一固定螺丝固定在所述调节支杆上；所述立柱的底部位置还开设有一第一进水接口，于所述立柱的正中位置开设有一出水接口，水平设置的所述调节支杆的底部正中位置开设有一第二进水接口，所述调节支杆内部为中空结构，进水管依次通过所述第一进水接口、所述出水接口和所述第二进水接口，并从所述第三通孔引出以连接所述喷水部件。