[实用新型]一种掩膜板及掩膜板存放装置有效
| 申请号： | 201820837278.8 | 申请日： | 2018-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN208444127U | 公开（公告）日： | 2019-01-29 |
| 发明（设计）人： | 刘会双;宁鹏飞;吴康成 | 申请（专利权）人： | 云谷（固安）科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/76 | 分类号： | G03F1/76;B65D25/10 |
| 代理公司： | 北京布瑞知识产权代理有限公司 11505 | 代理人： | 孟潭 |
| 地址： | 065000 河*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本实用新型实施例提供了一种掩膜板及掩膜板存放装置，解决了日常清洁时，使用无尘布和酒精擦拭掩膜板，由于摩擦起电，造成的掩膜板静电损坏的问题。包括：透明基板；遮光层，设置于所述透明基板的第一表面；以及接地的导电层，设置于所述透明基板的与所述第一表面相对的第二表面，其中所述遮光层的图形完全覆盖所述导电层的图形在所述遮光层上的投影。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜板 透明基板 遮光层 存放装置 第一表面 导电层 本实用新型 第二表面 静电损坏 摩擦起电 日常清洁 接地 无尘布 擦拭 投影 酒精 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜板，其特征在于，包括：透明基板；遮光层，设置于所述透明基板的第一表面；以及导电层，设置于所述透明基板的与所述第一表面相对的第二表面，其中所述遮光层的图形完全覆盖所述导电层的图形在所述遮光层上的投影。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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