[实用新型]一种掩膜板及掩膜板存放装置有效
| 申请号： | 201820837278.8 | 申请日： | 2018-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN208444127U | 公开（公告）日： | 2019-01-29 |
| 发明（设计）人： | 刘会双;宁鹏飞;吴康成 | 申请（专利权）人： | 云谷（固安）科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/76 | 分类号： | G03F1/76;B65D25/10 |
| 代理公司： | 北京布瑞知识产权代理有限公司 11505 | 代理人： | 孟潭 |
| 地址： | 065000 河*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 掩膜板 透明基板 遮光层 存放装置 第一表面 导电层 本实用新型 第二表面 静电损坏 摩擦起电 日常清洁 接地 无尘布 擦拭 投影 酒精 | ||
1.一种掩膜板，其特征在于，包括：
透明基板；
遮光层，设置于所述透明基板的第一表面；以及
导电层，设置于所述透明基板的与所述第一表面相对的第二表面，其中所述遮光层的图形完全覆盖所述导电层的图形在所述遮光层上的投影。
2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述导电层的图形的线条中心线与所述遮光层的图形的线条中心线在所述透明基板表面上的投影相对应。
3.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述透明基板的所述第一表面的四周包括没有被所述遮光层覆盖的非图形区，其中所述导电层延伸至与所述非图形区对应的且位于所述第二表面上的区域与接地线连接。
4.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，进一步包括：设置在所述遮光层远离所述透明基板的一侧的表面的保护膜层。
5.根据权利要求1-4任一项所述的掩膜板，其特征在于，所述导电层包括透明的金属线。
6.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述金属线的线宽为0.05～0.1μm。
7.根据权利要求1-4任一项所述的掩膜板，其特征在于，所述导电层的材料为铬。
8.根据权利要求1-4任一项所述的掩膜板，其特征在于，所述遮光层的材料为铬。
9.一种掩膜板存放装置，其特征在于，包括：
如上述权利要求1-8任一所述的掩膜板，其中所述透明基板的所述第一表面的四周包括没有被所述遮光层覆盖的非图形区；
掩膜板盒子，构造为存放所述掩膜板，其中所述掩膜板盒子与所述非图形区相接触的位置设有导电材料，所述导电层在所述非图形区与所述导电材料电连接；
搬送装置，构造为搬送所述掩膜板盒子，其中所述搬送装置设有接地线，所述接地线与所述导电材料电连接；以及
存储装置，存储所述掩膜板盒子，其中所述存储装置设有接地线，所述接地线与所述导电材料电连接。
10.根据权利要求9所述的掩膜板存放装置，其特征在于，所述掩膜板盒子包括：
盖子；
支撑机构，构造为支撑所述掩膜板四周的所述非图形区，其中所述导电材料位于所述支撑机构上。
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G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
