[实用新型]一种掩膜板及掩膜板存放装置有效
| 申请号: | 201820837278.8 | 申请日: | 2018-05-31 |
| 公开(公告)号: | CN208444127U | 公开(公告)日: | 2019-01-29 |
| 发明(设计)人: | 刘会双;宁鹏飞;吴康成 | 申请(专利权)人: | 云谷(固安)科技有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/76 | 分类号: | G03F1/76;B65D25/10 |
| 代理公司: | 北京布瑞知识产权代理有限公司 11505 | 代理人: | 孟潭 |
| 地址: | 065000 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 掩膜板 透明基板 遮光层 存放装置 第一表面 导电层 本实用新型 第二表面 静电损坏 摩擦起电 日常清洁 接地 无尘布 擦拭 投影 酒精 | ||
本实用新型实施例提供了一种掩膜板及掩膜板存放装置,解决了日常清洁时,使用无尘布和酒精擦拭掩膜板,由于摩擦起电,造成的掩膜板静电损坏的问题。包括:透明基板;遮光层,设置于所述透明基板的第一表面;以及接地的导电层,设置于所述透明基板的与所述第一表面相对的第二表面,其中所述遮光层的图形完全覆盖所述导电层的图形在所述遮光层上的投影。
技术领域
本实用新型涉及显示技术领域,具体涉及一种掩膜板及掩膜板存放装置。
背景技术
目前,掩膜板作为半导体行业非常重要的构图工具,用于实现将掩膜板上的掩膜图形以1:1的比例转移到目标衬底上,形成目标衬底上可导电的图形或狭缝图形。掩膜板包括遮光区域和透光区域,遮光区域设置有多个位于不同区域的遮光层用于遮光,一般的遮光层为刻蚀性能较好的导电金属,容易聚集电荷发生静电释放的不良现象,并且掩膜板尤其是高密度图形掩膜板在日常清洁时,如遇玻璃表面有大面积黏附性灰尘微粒或是一片污渍时,会使用无尘布和酒精擦拭,而此时,由于摩擦起电,使得掩膜板产生静电,这往往带来掩膜板遮光层金属图形的静电损坏事故。
实用新型内容
有鉴于此,本实用新型实施例提供了一种掩膜板及掩膜板存放装置,解决了日常清洁时,使用无尘布和酒精擦拭掩膜板,由于摩擦起电,造成的掩膜板静电损坏的问题。
本实用新型一实施例提供的一种掩膜板及掩膜板存放装置包括:
透明基板;
遮光层,设置于所述透明基板的第一表面;以及
导电层,设置于所述透明基板的与所述第一表面相对的第二表面,其中所述遮光层的图形完全覆盖所述导电层的图形在所述遮光层上的投影。
可选地,所述导电层的图形的线条中心线与所述遮光层的图形的线条中心线在所述透明基板表面上的投影相对应。
可选地,所述透明基板的所述第一表面的四周包括没有被所述遮光层覆盖的非图形区,其中所述导电层延伸至与所述非图形区对应的且位于所述第二表面上的区域与接地线连接。
可选地,进一步包括:设置在所述遮光层远离所述透明基板的一侧的表面的保护膜层。
可选地,所述导电层包括透明的金属线。
可选地,所述金属线的线宽为0.05~0.1μm。
可选地,所述导电层的材料为铬。
可选地,所述遮光层的材料为铬。
一种掩膜板存放装置,包括:
掩膜板盒子,构造为存放掩膜板,其中所述掩膜板盒子与所述非图形区相接触的位置设有导电材料;
如上述任一所述的掩膜板,设置在所述掩膜板盒子内,其中所述导电层在所述非图形区与所述导电材料电连接;
搬送装置,构造为搬送所述掩膜板盒子,其中所述搬送装置设有接地线,所述接地线与所述导电材料电连接;以及
存储装置,存储所述掩膜板盒子,其中所述存储装置设有接地线,所述接地线与所述导电材料电连接。
可选地,所述掩膜板盒子包括:
盖子;
支撑机构,构造为支撑所述掩膜板四周的所述非图形区,其中所述导电材料位于所述支撑机构上。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备





