[实用新型]物理气相沉积反应室的上盖自动对正结构有效
| 申请号： | 201820700904.9 | 申请日： | 2018-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN208151471U | 公开（公告）日： | 2018-11-27 |
| 发明（设计）人： | 陈英信;宋媛媛;周伟权;邱新智;黄裕鸿;彭奎彰 | 申请（专利权）人： | 天虹科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人： | 何为;李宇 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种物理气相沉积反应室的上盖自动对正结构，包括一腔体和一上盖，所述腔体具有一第一接触面，内部具有金属材质的一防着板；所述上盖可翻盖地结合在所述腔体上，该上盖具有供与该第一接触面相对应盖合接触的一第二接触面，该上盖上结合一靶材；多数半球形凹槽设于该第一接触面上；以及多数半球形凸块设于该第二接触面上，当该上盖向下盖合于该腔体上时，该多数半球形凸块分别自动滑嵌于该多数半球形凹槽之中。藉此使上盖向下盖合于该腔体上时，多数半球形凸块分别自动滑嵌于多数半球形凹槽之中，以使该上盖因此能自动导正至正确的位置，进而使上盖在重复开关中仍然能使靶材与防着板之间保持一个可靠的间隙。 | ||
| 搜索关键词： | 上盖 腔体 半球形凹槽 半球形凸块 盖合 物理气相沉积 自动对正 反应室 防着板 靶材 滑嵌 金属材质 自动导正 翻盖 重复 | ||
【主权项】：
1.一种物理气相沉积反应室的上盖自动对正结构，包括一腔体和一上盖，其特征在于：所述腔体具有一第一接触面，内部具有金属材质的一防着板；所述上盖可翻盖地结合在所述腔体上，该上盖具有供与该第一接触面相对应盖合接触的一第二接触面，该上盖上结合一靶材；多数半球形凹槽设于该第一接触面上；以及多数半球形凸块设于该第二接触面上，当该上盖向下盖合于该腔体上时，该多数半球形凸块分别自动滑嵌于该多数半球形凹槽之中。
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