[实用新型]一种用于二极管制备的碱洗机有效
| 申请号： | 201820655472.4 | 申请日： | 2018-05-03 |
| 公开（公告）号： | CN208077945U | 公开（公告）日： | 2018-11-09 |
| 发明（设计）人： | 黄发良;黄祥旺;陈振威;黄志和 | 申请（专利权）人： | 黄山市弘泰电子有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 深圳市百瑞专利商标事务所(普通合伙) 44240 | 代理人： | 李振泉;杨大庆 |
| 地址： | 245614*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于二极管制备的碱洗机，包括支架，设置在支架上的一组可拆卸的水槽，支架上对应各水槽设置有进水管，水槽的底部设置排水口，支架的底部位于排水口的下方设置有集水槽；支架位于水槽的上方设置有滑轨，滑轨上设置有可延其滑动的用于盛放产品的碱洗装置，支架还设置有用于驱动碱洗装置沿滑轨移动的横向驱动机构及用于驱动碱洗装置上升下降的纵向驱动机构。本实用新型能够有效解决传统的碱洗工序中，整个工序过程比较繁复，同时需要耗费很高的人力物力，在碱洗的过程中，对各种参数的控制也不容易把握的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 支架 水槽 碱洗装置 碱洗 本实用新型 二极管 排水口 滑轨 制备 横向驱动机构 纵向驱动机构 驱动 工序过程 滑轨移动 碱洗工序 可拆卸的 人力物力 有效解决 传统的 集水槽 进水管 滑动 盛放 | ||
【主权项】：
1.一种用于二极管制备的碱洗机，其特征在于：包括支架，设置在支架上的一组可拆卸的水槽，支架上对应各水槽设置有进水管，水槽的底部设置排水口，支架的底部位于排水口的下方设置有集水槽；支架位于水槽的上方设置有滑轨，滑轨上设置有可延其滑动的用于盛放产品的碱洗装置，支架还设置有用于驱动碱洗装置沿滑轨移动的横向驱动机构及用于驱动碱洗装置上升下降的纵向驱动机构。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
