[实用新型]一种PECVD设备腔体密封用紧固件有效
申请号: | 201820430411.8 | 申请日: | 2018-03-28 |
公开(公告)号: | CN208038552U | 公开(公告)日: | 2018-11-02 |
发明(设计)人: | 黄惠良;夏国帅;李雪峰;牛默予;邢安 | 申请(专利权)人: | 上海鸿辉光通科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/513 | 分类号: | C23C16/513 |
代理公司: | 上海湾谷知识产权代理事务所(普通合伙) 31289 | 代理人: | 李晓星 |
地址: | 201822 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种PECVD设备腔体密封用紧固件,用于PECVD设备腔体内紧固密封底座和波纹管法兰,紧固件包括与波纹管法兰密封连接的上部台阶孔,紧固件的上部台阶孔的底部垂直向上适度提升,直至紧固件的上部台阶孔的底部与所述波纹管法兰的底部及外围之间完全无缝对接。紧固件的上部台阶孔的底部垂直向上提升的高度为2mm,即紧固件的上部台阶孔的深度尺寸为7mm。经过对铜紧固件工艺结构尺寸的改进,使得其整体结构强度明显得到了提升,抗变形能力显著提高,进而不仅延长了其使用寿命,有效地增强PECVD设备腔体的高真空密封环境。 | ||
搜索关键词: | 紧固件 台阶孔 波纹管法兰 垂直向上 腔体密封 本实用新型 高真空密封 抗变形能力 工艺结构 紧固密封 密封连接 使用寿命 无缝对接 有效地 腔体 底座 体内 外围 改进 | ||
【主权项】:
1.一种PECVD设备腔体密封用紧固件,用于PECVD设备腔体内紧固密封底座和波纹管法兰,所述紧固件包括与所述波纹管法兰密封连接的上部台阶孔,其特征在于,所述紧固件的上部台阶孔的底部垂直向上适度提升,直至所述紧固件的上部台阶孔的底部与所述波纹管法兰的底部及外围之间完全无缝对接。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的