[实用新型]一种薄膜型AlGaInP发光二极管芯片有效
申请号: | 201820161161.2 | 申请日: | 2018-01-31 |
公开(公告)号: | CN207967032U | 公开(公告)日: | 2018-10-12 |
发明(设计)人: | 李树强;陈芳;郭醒;吴小明;王光绪;刘军林;江风益 | 申请(专利权)人: | 南昌大学;南昌黄绿照明有限公司 |
主分类号: | H01L33/40 | 分类号: | H01L33/40;H01L33/38 |
代理公司: | 江西省专利事务所 36100 | 代理人: | 张文 |
地址: | 330047 江西*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种薄膜型AlGaInP发光二极管芯片,该LED芯片包括:具有正反面的键合基板;从键合基板正面往上依次为:基板侧金属键合层、外延侧金属键合层、P面扩散阻挡金属层、P面反射欧姆接触层;从P面反射欧姆接触层往上依次为P型电流扩展层、P型限制层、P侧空间层、多量子阱发光区、N侧空间层、N型限制层、N型粗化层、N型欧姆接触层,N电极;键合基板的反面为P电极。本实用新型采用的P面反射欧姆接触层,同时具备光反射和欧姆接触功能;通过P面反射欧姆接触层的区块化,通过优化区块的间隔距离和N电极的宽度,可以抑制N电极对应区域电流注入集中问题,有效减少N电极遮挡效应。本实用新型具有能有效提高电光转换效率、结构简单等优点。 | ||
搜索关键词: | 反射欧姆接触层 本实用新型 键合基 发光二极管芯片 金属键合层 薄膜型 空间层 多量子阱发光区 扩散阻挡金属层 电光转换效率 间隔距离 欧姆接触 区域电流 有效减少 板正面 光反射 区块化 基板 区块 遮挡 优化 | ||
【主权项】:
1.一种薄膜型AlGaInP发光二极管芯片,包括:具有正反面的键合基板;其特征在于:从键合基板正面往上依次为:基板侧金属键合层、外延侧金属键合层、P面扩散阻挡金属层、P面反射欧姆接触层;从P面反射欧姆接触层往上依次为P型电流扩展层、P型限制层、P侧空间层、多量子阱发光区、N侧空间层、N型限制层、N型粗化层、N型欧姆接触层,N电极;键合基板的反面为P电极;P面反射欧姆接触层为Ag或者Ni/Ag叠层金属结构,与P型电流扩展层形成良好的欧姆接触,同时具备光反射和欧姆接触功能。
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