[实用新型]一种真空热处理炉上的正压压力控制系统有效
| 申请号： | 201820095768.5 | 申请日： | 2018-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN207831907U | 公开（公告）日： | 2018-09-07 |
| 发明（设计）人： | 刘洋 | 申请（专利权）人： | 青岛精诚华旗微电子设备有限公司 |
| 主分类号： | F27B5/05 | 分类号： | F27B5/05;F27B5/06;F27B5/18 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 266000 山东*** | 国省代码： | 山东;37 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种真空热处理炉上的正压压力控制系统，与真空热处理炉相对应，所述真空热处理炉上包括反应腔，正压压力控制系统，工控系统，其特征在于：所述正压压力控制系统包括供气系统和出气系统；所述反应腔外部设置有压力传感器；所述工控系统与正压压力控制系统，压力传感器连接进行反应腔内压力的控制。本实用新型设计合理，设计合理，使得反应腔和进气系统、出气系统内的气体压力变得稳定可控；同时，增加不同温度段环境下压力设定范围值，避免充气阀和泄压阀频繁开启，保证了在不同温度环境下反应腔内需要的气体压力更加恒定，提高了制品热处理环境的稳定性，物料产成品合格率更高，同时降低了生产成本，实用性强，适于推广。 | ||
| 搜索关键词： | 压力控制系统 正压 真空热处理炉 反应腔 本实用新型 出气系统 工控系统 气体压力 恒定 热处理环境 压力传感器 供气系统 进气系统 外部设置 温度环境 下反应腔 充气阀 内压力 温度段 下压力 泄压阀 有压力 传感器 可控 生产成本 合格率 保证 | ||
【主权项】：
1.一种真空热处理炉上的正压压力控制系统，与真空热处理炉相对应，所述真空热处理炉上包括反应腔，正压压力控制系统，工控系统，其特征在于：所述正压压力控制系统包括包括供气系统和出气系统；所述反应腔外部设置有压力传感器；所述工控系统与正压压力控制系统，压力传感器连接进行反应腔内压力的控制。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于青岛精诚华旗微电子设备有限公司，未经青岛精诚华旗微电子设备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201820095768.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种真空烧结炉上的加热体装置
- 下一篇：一种新型真空热处理炉负压压力控制系统
