[实用新型]封闭空腔结构和超声波指纹传感器有效
申请号: | 201820026177.2 | 申请日: | 2018-01-08 |
公开(公告)号: | CN207780806U | 公开(公告)日: | 2018-08-28 |
发明(设计)人: | 季锋;闻永祥;刘琛;刘健 | 申请(专利权)人: | 杭州士兰微电子股份有限公司 |
主分类号: | G06K9/00 | 分类号: | G06K9/00 |
代理公司: | 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 | 代理人: | 蔡纯;张靖琳 |
地址: | 310012*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本申请公开了封闭空腔结构和超声波指纹传感器。封闭空腔结构包括:位于支撑层上的模板层,所述模板层包括第一开口;位于所述模板层上的停止层,停止层共形地覆盖所述模板层,从而形成与第一开口对应的空腔;位于停止层上的至少一个掩模层;位于至少一个掩模层中的弯折的释放通道;以及位于至少一个掩模层上的密封层,其特征在于,停止层和所述至少一个掩模层共同围绕所述空腔,所述密封层封闭所述释放通道,从而形成封闭空腔。该封闭空腔结构采用弯折的释放通道形成空腔以及阻止密封层进入空腔中,从而提高半导体器件的良率、稳定性和可靠性。 | ||
搜索关键词: | 封闭空腔结构 模板层 停止层 掩模层 空腔 密封层 指纹传感器 超声波 弯折的 释放 开口 半导体器件 封闭空腔 通道形成 支撑层 共形 良率 封闭 覆盖 申请 | ||
【主权项】:
1.一种封闭空腔结构,其特征在于,包括:位于支撑层上的模板层,所述模板层包括第一开口;位于所述模板层上的停止层,所述停止层共形地覆盖所述模板层,从而形成与所述第一开口对应的空腔;位于所述停止层上的至少一个掩模层;位于所述至少一个掩模层中的弯折的释放通道;以及位于所述至少一个掩模层上的密封层,其中,所述停止层和所述至少一个掩模层共同围绕所述空腔,所述密封层封闭所述释放通道,从而形成封闭空腔。
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