[实用新型]子掩膜版及掩膜版有效
| 申请号： | 201820003884.X | 申请日： | 2018-01-02 |
| 公开（公告）号： | CN207775334U | 公开（公告）日： | 2018-08-28 |
| 发明（设计）人： | 谢飞;苏胜利;张佳成;周俊吉 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 滕一斌 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种子掩膜版及掩膜版，属于蒸镀设备领域。该子掩膜版包括图案区和两个夹持区，两个夹持区分别位于图案区相对的两侧，图案区和两个夹持区中的至少一个之间设有呈梯形的过渡区，过渡区的第一底边与夹持区连接，过渡区的第二底边与图案区连接，第一底边为过渡区的较长的底边，第二底边为过渡区的较短的底边，在通过张网机夹持住两个夹持区进行拉伸时，过渡区上会产生沿过渡区的腰的延伸方向的拉力，由于拉力的方向与图案区的长度方向的夹角大于0，因此该拉力会产生垂直于图案区的长度方向的分力，从而降低图案区产生褶皱的可能，这样子掩膜版制作成FMM后，FMM的褶皱较少，从而提高了FMM的平坦度。 | ||
| 搜索关键词： | 过渡区 图案区 夹持区 掩膜版 褶皱 蒸镀设备 种子掩膜 平坦度 分力 机夹 拉伸 掩膜 张网 垂直 延伸 制作 | ||
【主权项】：
1.一种子掩膜版，所述子掩膜版包括图案区和两个夹持区，所述两个夹持区分别位于所述图案区相对的两侧，其特征在于，所述图案区和所述两个夹持区中的至少一个之间设有呈梯形的过渡区，所述过渡区的第一底边与所述夹持区连接，所述过渡区的第二底边与所述图案区连接，所述第一底边为所述过渡区的较长的底边，所述第二底边为所述过渡区的较短的底边。
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