[发明专利]等离子体刻蚀机有效
| 申请号： | 201811612749.6 | 申请日： | 2018-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN111383888B | 公开（公告）日： | 2022-03-11 |
| 发明（设计）人： | 邱勇;刘海洋;李娜;王铖熠;侯永刚;陈兆超;胡冬冬;许开东 | 申请（专利权）人： | 江苏鲁汶仪器有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京得信知识产权代理有限公司 11511 | 代理人： | 袁伟东;阿苏娜 |
| 地址： | 221300 江苏省徐州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开一种等离子体刻蚀机，包括包围基体处理位置空间的反应腔室体(1)、腔盖(4)和内衬(2)，腔盖可拆卸地封盖在反应腔室体上，内衬可拆卸地设置于反应腔室体内，反应腔室体的侧壁上设有用于机械手进出的贯通槽(11)，内衬的侧壁上开设有开口槽(21)，开口槽与贯通槽的位置相对应，反应腔室体的侧壁上还设有与内衬的侧壁成角度设置的操作槽(5)，操作槽位于内衬的侧下方，并均与开口槽和贯通槽连通，等离子体刻蚀机还包括挡板(22)和推动机构，推动机构设置在操作槽内，挡板与推动机构连接，推动机构带动挡板沿操作槽在打开位置与关闭位置之间移动，在关闭位置，挡板挡住开口槽，在打开位置，挡板完全露出开口槽。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 刻蚀 | ||
【主权项】：
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