[发明专利]一种N型双面电池的制备方法在审
申请号: | 201811603066.4 | 申请日: | 2018-12-26 |
公开(公告)号: | CN109671806A | 公开(公告)日: | 2019-04-23 |
发明(设计)人: | 白明华;包健;张昕宇;金浩 | 申请(专利权)人: | 浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/068;H01L31/0224 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 罗满 |
地址: | 314416 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种N型双面电池的制备方法,包括:步骤1,对制绒后的N型单晶硅片进行正面硼扩散,形成正面BSG层;步骤2,对N型单晶硅片进行背面低浓度磷扩散;步骤3,在N型单晶硅片背面沉积掩膜层;步骤4,在N型单晶硅片的背面预设电极处进行激光开槽,形成开槽区;步骤5,对N型单晶硅片背面进行高浓度磷扩散。步骤6,去除N型单晶硅片背面的掩膜层和高浓度磷扩散、低浓度磷扩散形成的磷硅玻璃以及BSG层。通过在背面掩膜层上进行开孔并进行二次扩散,形成选择性背电场,由于低浓度磷扩散能够减少发射区的复合并减少死层的存在,且扩散过程容易控制,使得扩散区的方块电阻均匀,提高了载流子的收集效率,提高了电池性能。 | ||
搜索关键词: | 扩散 低浓度磷 背面 高浓度磷 双面电池 制备 载流子 背面掩膜层 沉积掩膜层 电池性能 二次扩散 方块电阻 激光开槽 磷硅玻璃 收集效率 背电场 发射区 开槽区 扩散区 硼扩散 掩膜层 电极 开孔 去除 死层 预设 制绒 复合 | ||
【主权项】:
1.一种N型双面电池的制备方法,其特征在于,包括:步骤1,对制绒后的N型单晶硅片进行正面硼扩散,形成正面BSG层;步骤2,对所述N型单晶硅片背面进行低浓度磷扩散;步骤3,在所述N型单晶硅片背面沉积掩膜层;步骤4,在所述N型单晶硅片的背面预设电极处进行激光开槽,形成开槽区;步骤5,对所述N型单晶硅片背面进行高浓度磷扩散。步骤6,去除所述N型单晶硅片背面的掩膜层和所述高浓度磷扩散、所述低浓度磷扩散形成的磷硅玻璃以及所述BSG层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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