[发明专利]一种石英晶片的清洗方法及自动清洗装置

摘要

本申请公开了一种石英晶片的清洗方法和自动清洗装置。清洗方法包括：将待清洗的所述晶片置于NPB清洗液、预热后恒温的Micro‑90清洗液、去离子水、预热后恒温的双氧水、去离子水、预热后恒温的无水乙醇中分别进行第一次超声清洗、第二次超声清洗、第一次溢流、浸泡腐蚀、第二次溢流、脱水。所述自动清洗装置包括至少6个可隔离清洗槽，夹具，连接部件，夹持部件，控制系统，所述夹持部件通过所述连接部件与所述夹具可拆卸固定连接,所述夹持部件游离在所述清洗槽外部，用于带动所述夹具浸入或移出所述每个清洗槽。本申请可实现对所述晶片进行多水段洗液自动清洗，且对每个清洗步骤的时长和温度参数实现精准控制。

主权项

1.一种石英晶片的清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：将待清洗的所述晶片置于NPB清洗液中进行第一次超声清洗；将所述晶片置于预热后恒温的Micro‑90清洗液中进行第二次超声清洗，所述预热后恒温的Micro‑90清洗液的温度为60℃至90℃；将所述晶片置于去离子水中进行第一次溢流；将所述晶片置于预热后恒温的双氧水中进行浸泡腐蚀，所述预热后恒温的双氧水试剂的温度为60℃至90℃；将所述晶片置于去离子水中进行第二次溢流；将所述晶片置于预热后恒温的无水乙醇中进行脱水，所述预热后恒温的无水乙醇的温度为60℃至90℃。