[发明专利]一种石英晶片的清洗方法及自动清洗装置在审
| 申请号： | 201811589934.8 | 申请日： | 2018-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN109647783A | 公开（公告）日： | 2019-04-19 |
| 发明（设计）人： | 王莉;王巍丹;潘立虎;郑文强;牛磊;崔巍;段友峰;刘小光 | 申请（专利权）人： | 北京无线电计量测试研究所 |
| 主分类号： | B08B3/04 | 分类号： | B08B3/04;B08B3/08;B08B3/12;B08B13/00 |
| 代理公司： | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人： | 马骥;南霆 |
| 地址： | 100854 北京市海*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 清洗 夹具 自动清洗装置 夹持部件 预热 超声清洗 连接部件 去离子水 石英晶片 清洗槽 清洗液 晶片 溢流 双氧水 可拆卸固定连接 清洗槽外部 浸入 精准控制 控制系统 温度参数 无水乙醇 自动清洗 可隔离 时长 洗液 移出 申请 脱水 游离 浸泡 腐蚀 | ||
1.一种石英晶片的清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：
将待清洗的所述晶片置于NPB清洗液中进行第一次超声清洗；
将所述晶片置于预热后恒温的Micro-90清洗液中进行第二次超声清洗，所述预热后恒温的Micro-90清洗液的温度为60℃至90℃；
将所述晶片置于去离子水中进行第一次溢流；
将所述晶片置于预热后恒温的双氧水中进行浸泡腐蚀，所述预热后恒温的双氧水试剂的温度为60℃至90℃；
将所述晶片置于去离子水中进行第二次溢流；
将所述晶片置于预热后恒温的无水乙醇中进行脱水，所述预热后恒温的无水乙醇的温度为60℃至90℃。
2.根据权利要求1所述的一种石英晶片的清洗方法，其特征在于，还包括以下步骤：将脱水后的所述晶片进行干燥。
3.根据权利要求1所述的一种石英晶片的清洗方法，其特征在于：所述第一次超声清洗时长为第一时长，所述第二次超声清洗时长为第二时长，所述第一次溢流时长为第三时长，所述浸泡腐蚀时长为第四时长，所述第二次溢流时长为第五时长，所述脱水时长为第六时长；
所述第一时长、第三时长、第五时长、第六时长至少一个为1至3分钟；
所述第二时长、第四时长至少一个为5至10分钟。
4.根据权利要求2所述的一种石英晶片的清洗方法，其特征在于：所述干燥持续时长为第七时长，所述第七时长为5至10分钟。
5.根据权利要求1所述的一种石英晶片的清洗方法，其特征在于，所述NPB清洗液为NPB清洗原液。
6.根据权利要求1所述的一种石英晶片的清洗方法，其特征在于，所述Micro-90清洗液为0.1％至1.0％的Micro-90清洗液。
7.根据权利要求1所述的一种石英晶片的清洗方法，其特征在于，所述双氧水为饱和度30％的双氧水。
8.一种石英晶片的自动清洗装置，用于实现权利要求1至7的任一项所述石英晶片的清洗方法，所述清洗装置包括至少6个可隔离清洗槽，夹具，连接部件，夹持部件，控制系统，所述夹具用于盛装所述晶体，其特征在于：
所述夹持部件通过所述连接部件与所述夹具可拆卸固定连接；
所述夹持部件游离在所述清洗槽外部，用于带动所述夹具浸入或移出所述每个清洗槽；
所述控制系统包括输入单元和输出单元，所述输入单元用于输入预设温度和预设时长，所述输出单元用于根据所述预设温度调整每个清洗槽的温度、根据所述预设时长移动所述夹持部件。
9.根据权利要求8所述的一种石英晶片的自动清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括干燥部件。
10.根据权利要求8所述的一种石英晶片的自动清洗装置，其特征在于，所述夹具包括至少一个载孔、盖板和卡销；
所述载孔用于盛装单个独立的所述石英晶片；
所述盖板具有卡槽，所述盖板通过所述卡槽与所述卡销推动连接，所述卡槽与所述卡销的相对位置移动实现所述盖板与所述载孔的开合，合时所述盖板与所述载孔组成一个密闭空间。
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