[发明专利]提高砷化镓衬底减薄后表面洁净度的磨料及加工方法

摘要

一种提高砷化镓衬底减薄后表面洁净度的磨料及加工方法，通过将二乙醇酰胺硬脂酸甘油单酯、二月桂基二甲基氯化铵、烷氧基聚氧乙烯基硫酸酯、1‑羧甲基钠‑1‑β‑羟乙基‑2‑烷基‑咪唑啉氢氧化钠按1.5‑2:2‑3:2‑3:1的比例混合形成调节剂，可以使磨料具备低表面活性和高分散性的适用于砷化镓衬底的磨料，阻碍研磨过程中颗粒表面由于断键、静电而与衬底砷化镓活性研磨面形成结合而难以去除。可有效阻止颗粒吸附或残留在减薄后的衬底表面，是表面保持洁净，有利于后续的镀膜质量，提高芯片的质量和良率。