[发明专利]一种玻璃减薄设备及使用方法在审
| 申请号： | 201910336677.5 | 申请日： | 2019-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN109942203A | 公开（公告）日： | 2019-06-28 |
| 发明（设计）人： | 韦建晶 | 申请（专利权）人： | 合肥伟仕泰克电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 合肥昊晟德专利代理事务所(普通合伙) 34153 | 代理人： | 王林 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市新站区物流路与*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开一种玻璃减薄设备及使用方法，包括蚀刻区用于对竖直容纳在玻璃加工治具中的多个玻璃进行减薄处理；冲洗区用于玻璃加工治具上的玻璃进行减薄前清洁和减薄后清洁；转换区用于待减薄处理的玻璃加工治具加载到冲洗区中，并将减薄处理后的玻璃加工治具从冲洗区卸载到外部；制动组件用于实现将玻璃加工治具从转换区经冲洗区向蚀刻区的减薄前移动，以及从蚀刻区经冲洗区向转换区的减薄后移动；冲洗区设置于转换区和蚀刻区之间；本发明中所述玻璃减薄生产线采用喷淋减薄的方式对竖直容纳在玻璃加工治具中的玻璃进行减薄处理，可实现单次多片玻璃减薄，同时避免浸泡式减薄法中反应产物粘附在玻璃上造成不良品的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 减薄 玻璃加工 冲洗区 治具 玻璃 减薄处理 蚀刻区 转换区 减薄设备 竖直 容纳 制动组件 清洁 不良品 浸泡式 移动 多片 加载 喷淋 卸载 粘附 外部 | ||
【主权项】：
1.一种玻璃减薄设备，其特征在于，包括蚀刻区，用于对竖直容纳在玻璃加工治具中的多个玻璃进行减薄处理；冲洗区，用于所述玻璃加工治具上的玻璃进行减薄前清洁和减薄后清洁；转换区，用于待减薄处理的所述玻璃加工治具加载到所述冲洗区中，并将减薄处理后的所述玻璃加工治具从所述冲洗区卸载到外部；制动组件，用于实现将所述玻璃加工治具从所述转换区经所述冲洗区向所述蚀刻区的减薄前移动，以及从所述蚀刻区经所述冲洗区向所述转换区的减薄后移动；所述冲洗区设置于所述转换区和所述蚀刻区之间。
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刻蚀药液中的H+阳离子与盐水解的阴离子反应通式如下：
步骤2)：将搅匀后的混合溶液经过磁场频率为20～40kHz空化，然后再将空化后溶液中的沉淀物X2(SiF6)n滤出，滤出沉淀物X2(SiF6)n后的溶液再通过离子交换树脂，得到滤液；步骤3)：向步骤2)中的滤液加入去离子水，保持pH值为1.8～2.3。本发明可延长刻蚀药液寿命，保证药液活性，延长了刻蚀药液更换周期，同时其寿命延长期间隔离率趋势稳定。
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- 金宇辉 - 康宁股份有限公司
- 2018-01-25 - 2019-09-20 - C03C15/00
- 公开了一种透明玻璃片，其包括至少一个防眩光表面，所述防眩光表面具有平均尺寸等于或小于20微米的多个离散表面特征以及一个或多个平坦区域。至少一部分离散的表面特征彼此间隔开，并且所述多个离散表面特征中的每个表面特征可以由平坦区域界定。离散的表面特征可以间隔开并被平坦区域分离。如使用141ppi的显示光源通过SMS台架测试仪所评估的，所述透明玻璃片可以具有等于或小于3％的闪光值。还公开了一种用于在透明玻璃片上制造防眩光表面的方法，所述方法包括：向粗化溶液中引入透明玻璃片以及对防眩光表面进行酸抛光。
- 一种太阳光全波段超低反射玻璃的制备方法-201910468177.7
- 刘立强;王晓临 - 山东建筑大学
- 2019-05-31 - 2019-09-17 - C03C15/00
- 本发明公开了一种太阳光全波段超低反射玻璃的制备方法。本发明是将玻璃基体先经过HF溶液预处理，然后浸泡在特制的腐蚀液(磷酸盐、碳酸盐和硅酸盐的混合液)中，最后再用HF溶液腐蚀，通过控制腐蚀温度和腐蚀时间，以实现太阳光全波段超低反射玻璃的制备。所得太阳光全波段超低反射玻璃可以有效将全波段太阳光(300nm‑2500nm)的反射率降至1％以下，提高光的透过率。该制备方法反应条件可控，设备要求简单，易于实现批量生产，有利于环境保护。
- 用于减少玻璃片边缘颗粒的方法-201880009518.8
- 刘佳;S·文卡塔查拉姆;赵晶 - 康宁股份有限公司
- 2018-01-31 - 2019-09-13 - C03C15/00
- 玻璃制品的制造方法包括向制品的边缘表面施涂蚀刻霜。施涂蚀刻霜可以将边缘表面上的颗粒密度降低至小于约200个每0.1平方毫米。蚀刻霜可以含有例如氢氟酸、盐酸和增稠剂。
- 一种玻璃腐蚀的掩膜方法-201710206914.7
- 张照云;苏伟;唐彬;许蔚;熊壮 - 中国工程物理研究院电子工程研究所
- 2017-03-31 - 2019-09-10 - C03C15/00
- 本发明公开了一种玻璃腐蚀的掩膜方法，该包括：（a）通过氢氧化物将具有表面氧化层的硅片与玻璃进行催化键合；（b）去掉硅片上表面的氧化层；（c）减薄硅片；（d）以光刻胶在硅片表面光刻，形成玻璃腐蚀所需要的图形；（e）利用DRIE（深反应离子刻蚀）各向异性刻蚀，刻蚀硅片，刻蚀深度至玻璃层；（f）去掉硅片上的光刻胶；（g）腐蚀玻璃；（h）去掉玻璃上的硅、氧化硅，并清洗，得到所需要的玻璃结构。本发明的方法，玻璃腐蚀深度不受限制，且可以避免阳极键合温度带来的热应力，另外不需要昂贵的设备，操作简单。
- 一种玻璃蚀刻设备-201821970035.8
- 陈永增;赵良龙 - 东莞市银泰玻璃有限公司
- 2018-11-28 - 2019-09-10 - C03C15/00
- 本实用新型涉及一种玻璃蚀刻设备，底座上设置有箱体，箱体开设有进料口和出料口，箱体内设置有若干输送辊，箱体靠近进料口的位置设置有进液口；箱体靠向进料口的位置横跨设置有U型支架，U型支架上设置有一组提起结构；提起结构包括提起组件A以及与提起组件A水平对齐并且相向设置的提起组件B，提起组件A包括固定在U型支架顶部的伸缩气缸、设置在伸缩气缸下方并且与伸缩气缸动力输出端连接的L形伸缩臂A；提起组件B包括固定在U型支架顶部的伸缩气缸、设置在伸缩气缸下方并且与伸缩气缸动力输出端连接的L形伸缩臂B。本实用新型的有益效果为：通过设置提起结构，防止过度蚀刻，再设置擦拭结构，确保玻璃进入蚀刻箱体后其表面的洁净度。
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