[发明专利]一种用于真空反应设备的破真空装置在审
申请号: | 201811556408.1 | 申请日: | 2018-12-19 |
公开(公告)号: | CN109686641A | 公开(公告)日: | 2019-04-26 |
发明(设计)人: | 刘京京;林大野;何进;李春来;胡国庆 | 申请(专利权)人: | 深港产学研基地;北京大学深圳研究院 |
主分类号: | H01J37/18 | 分类号: | H01J37/18 |
代理公司: | 深圳市惠邦知识产权代理事务所 44271 | 代理人: | 满群 |
地址: | 518000 广东省深圳市南*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明属于真空反应设备技术领域,具体涉及一种用于真空反应设备的破真空装置,所述装置包括第一端面和第二端面,所述第一端面和所述第二端面上均设有若干气孔,所述第一端面上的气孔和所述第二端面上的气孔均相通,破真空时,所述装置在真空反应设备腔体内,所述第一端面与所述进气孔所在面相连,所述第一端面上的气孔与所述进气孔相通,所述第二端面上的气孔总面积大于所述第一端面上的气孔总面积。本装置可以有效缩短破真空的时间,提高产品制造效率。 | ||
搜索关键词: | 真空反应 破真空装置 进气孔 破真空 相通 设备技术领域 产品制造 设备腔 体内 | ||
【主权项】:
1.一种用于真空反应设备的破真空装置,其特征在于,所述装置包括第一端面和第二端面,所述第一端面和所述第二端面上均设有若干气孔,所述第一端面上的气孔和所述第二端面上的气孔均相通,破真空时,所述装置在真空反应设备腔体内,所述第一端面与所述进气孔所在面相连,所述第一端面上的气孔与所述进气孔相通,所述第二端面上的气孔总面积大于所述第一端面上的气孔总面积。
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