[发明专利]一种用于真空反应设备的破真空装置在审
| 申请号： | 201811556408.1 | 申请日： | 2018-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN109686641A | 公开（公告）日： | 2019-04-26 |
| 发明（设计）人： | 刘京京;林大野;何进;李春来;胡国庆 | 申请（专利权）人： | 深港产学研基地;北京大学深圳研究院 |
| 主分类号： | H01J37/18 | 分类号： | H01J37/18 |
| 代理公司： | 深圳市惠邦知识产权代理事务所 44271 | 代理人： | 满群 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空反应 破真空装置 进气孔 破真空 相通 设备技术领域 产品制造 设备腔 体内 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于真空反应设备的破真空装置，其特征在于，所述装置包括第一端面和第二端面，所述第一端面和所述第二端面上均设有若干气孔，所述第一端面上的气孔和所述第二端面上的气孔均相通，破真空时，所述装置在真空反应设备腔体内，所述第一端面与所述进气孔所在面相连，所述第一端面上的气孔与所述进气孔相通，所述第二端面上的气孔总面积大于所述第一端面上的气孔总面积。
2.根据权利要求1所述的用于真空反应设备的破真空装置，其特征在于，所述装置的形状为长方体，所述第一端面和第二端面为长方体装置上相对的两个面。
3.根据权利要求1所述的用于真空反应设备的破真空装置，其特征在于，所述装置的形状为圆锥台体或锥台体或类圆锥台体，所述第一端面和第二端面分别为圆锥台体或锥台体或类圆锥台体装置上的顶面和底面。
4.根据权利要求1至3任一所述的用于真空反应设备的破真空装置，其特征在于，所述第一端面上设有一个气孔，所述第二端面上设有多个气孔，所述第二端面上的气孔以所述第一端面上的气孔在所述第二端面上的投影为中心对称式分布。
5.根据权利要求4任一所述的用于真空反应设备的破真空装置，其特征在于，所述第二端面上的气孔呈圆形或方形排列。
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