[发明专利]一种可见光短波段硅基雪崩光电二极管阵列及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201811549954.2 申请日: 2018-12-18
公开(公告)号: CN109638024A 公开(公告)日: 2019-04-16
发明(设计)人: 高丹;张军 申请(专利权)人: 暨南大学
主分类号: H01L27/144 分类号: H01L27/144;H01L31/0216;H01L31/107;H01L31/18
代理公司: 广州润禾知识产权代理事务所(普通合伙) 44446 代理人: 林伟斌;凌衍芬
地址: 510632 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种可见光短波段硅基雪崩光电二极管阵列,包括吸收层,所述吸收层下部两侧分别连接有衬底层和场控层,所述场控层下部依次包括:倍增层和非耗尽层,且所述场控层、倍增层和非耗尽层依次连接;所述衬底层分别与所述场控层、倍增层和非耗尽层之间绝缘,且所述衬底层连接有第一电极,所述非耗尽层连接有第二电极。本发明通过将吸收层设计在器件的表层,从而使入射的可见光短波段在表层刚入射时就被充分吸收,提高了器件的响应度和量子效率;同时APD的阴极和阳极均位于器件的底部,增加了光敏面积,从而提高器件的量子效率,及对可见光的灵敏度;并且对器件进行阵列化分割,提高器件的截止频率及增益。
搜索关键词: 耗尽层 场控 可见光短波段 倍增层 衬底层 吸收层 雪崩光电二极管阵列 量子效率 硅基 入射 阴极 可见光 阳极 第二电极 第一电极 截止频率 依次连接 灵敏度 响应度 阵列化 光敏 绝缘 制备 分割 吸收
【主权项】:
1.一种可见光短波段硅基雪崩光电二极管阵列,其特征在于,包括吸收层,所述吸收层下部两侧分别连接有衬底层和场控层,所述场控层下面依次包括:倍增层和非耗尽层,且所述场控层、倍增层和非耗尽层依次连接;所述衬底层分别和所述场控层、倍增层、非耗尽层之间绝缘,且所述衬底层连接有第一电极;所述非耗尽层与第二电极连接;所述吸收层为π型硅;所述场控层为p型硅;所述倍增层为π型硅;所述非耗尽层为n+型硅;所述衬底层为p+型硅。
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