[发明专利]一种屏下指纹识别光电保护膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201811542263.X | 申请日： | 2018-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN111320944A | 公开（公告）日： | 2020-06-23 |
| 发明（设计）人： | 金国华 | 申请（专利权）人： | 浙江欣麟新材料技术有限公司 |
| 主分类号： | C09J7/29 | 分类号： | C09J7/29 |
| 代理公司： | 宿迁市永泰睿博知识产权代理事务所(普通合伙) 32264 | 代理人： | 陈栋 |
| 地址： | 321102 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种屏下指纹识别光电保护膜及其制备方法，包括离型底膜层及功能层，所述功能层沿远离所述离型底膜层方向依次包括安装硅胶层、使用基膜层、HC层、保护硅胶层和保护基膜层，所述使用基膜层包括若干层使用基膜，其中所述使用基膜的至少一面设置有防腐蚀易接着层，所述防腐蚀易接着层的材质为聚酯、聚氨酯、丙烯酸、有机硅涂层中的一种或几种的组合。本发明的保护膜，通过在使用基膜层的使用基膜上预先涂覆防腐蚀易接着层，可以有效提高涂胶后产品的撕裂强度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 指纹识别 光电 保护膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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