[发明专利]一种屏下指纹识别光电保护膜及其制备方法

说明书

本发明公开了一种屏下指纹识别光电保护膜及其制备方法，包括离型底膜层及功能层，所述功能层沿远离所述离型底膜层方向依次包括安装硅胶层、使用基膜层、HC层、保护硅胶层和保护基膜层，所述使用基膜层包括若干层使用基膜，其中所述使用基膜的至少一面设置有防腐蚀易接着层，所述防腐蚀易接着层的材质为聚酯、聚氨酯、丙烯酸、有机硅涂层中的一种或几种的组合。本发明的保护膜，通过在使用基膜层的使用基膜上预先涂覆防腐蚀易接着层，可以有效提高涂胶后产品的撕裂强度。

技术领域

本发明涉及属于电子产品的屏幕表面保护领域，尤其涉及一种屏下指纹识别光电保护膜及其制备方法。

背景技术

随着智能穿戴设备技术的迅猛发展，弧面屏幕应用于电子产品特别是电视、电脑、手机上也越来越广。弧面屏幕具有以下特点：弧面屏幕其重量小，功率低，一定程度上解决了续航问题；弧面屏幕也更加符合人体工程学设计，佩戴舒适度更高。而现有屏下指纹识别光电保护膜，其使用层包括单层型和复合型，单层型弧度仅适合于2.5D屏使用；复合型可适合于目前市面流行的2.5D、3D、4D等不同弧度的触摸屏保护膜两种。由于使用基膜层一般为PC材质，容易被其上下表面的有机层所含的有机溶剂腐蚀，从而使使用基膜层自身的强度降低，抗拉强度大大降低。

发明内容

本发明旨在提供一种抗拉力好的屏下指纹识别光电保护膜及其制备方法。

本发明的目的之一在于提供一种屏下指纹识别光电保护膜，包括离型底膜层及功能层，所述功能层沿远离所述离型底膜层方向依次包括安装硅胶层、使用基膜层、HC层、保护硅胶层和保护基膜层，所述使用基膜层包括若干层使用基膜，其中所述使用基膜的至少一面设置有防腐蚀易接着层，所述防腐蚀易接着层的材质为聚酯、聚氨酯、丙烯酸、有机硅涂层中的一种或几种的组合。

进一步地，本发明的屏下指纹识别光电保护膜，所述离型底膜层的厚度为36-125μm，所述安装硅胶层的厚度为10-100μm，所述使用基膜层的厚度为50-250μm，所述HC层的厚度为1-10μm，所述保护硅胶层的厚度为5-25μm，所述保护基膜层的厚度为36-125μm。

进一步地，本发明的屏下指纹识别光电保护膜，所述离型底膜层为氟素离型膜，所述使用基膜层的基膜材质为PC、TPU、PMMA、TAC、PP、SRF、COP中的一种或几种的组合，所述保护基膜层的材质为PET保护基膜。

进一步地，本发明的屏下指纹识别光电保护膜，所述HC层的硬度为1-9H,水滴角95-120°，表面摩擦系数为小于0.1，表面摩擦电压小于400V，表面阻抗为109-110Ω，附着力为大于5B。

进一步地，本发明的屏下指纹识别光电保护膜，所述HC层的硬度为2-3H,水滴角102-110°，表面摩擦系数为小于0.05。

进一步地，本发明的屏下指纹识别光电保护膜，所述安装硅胶的剥离力为1-1500g。

进一步地，本发明的屏下指纹识别光电保护膜，所述防腐蚀易接着层厚度之和占所述使用基膜层的5%-10%。

进一步地，本发明的屏下指纹识别光电保护膜，所述使用基膜层的材质为PC或PC与PMMA的组合。

进一步地，本发明的屏下指纹识别光电保护膜，所述使用基膜层为单层的PC使用基膜，所述PC使用基膜的上下两面均设置有防腐蚀易接着层。

本发明的另一目的在于提供一种制备上述屏下指纹识别光电保护膜的方法，在使用基膜层的使用基膜的至少一面预先涂覆防腐蚀易接着层，所述防腐蚀易接着层的材质为聚酯、聚氨酯、丙烯酸、有机硅涂层中的一种或几种的组合，将离型底膜层和功能层依次进行叠合压制而成。

有益效果：本发明的屏下指纹识别光电保护膜，通过在使用基膜层的使用基膜上预先涂覆防腐蚀易接着层，可以有效提高涂胶后产品的撕裂强度。

附图说明