[发明专利]一种耦合区改进型的微环谐振器及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201811529297.5 申请日: 2018-12-14
公开(公告)号: CN109541745B 公开(公告)日: 2020-08-11
发明(设计)人: 帅垚;乔石珺;高琴;吴传贵;罗文博;王韬;张万里 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: G02B6/12 分类号: G02B6/12
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 张杨;吴姗霖
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明提供一种耦合区改进型的微环谐振器及其制作方法,属于集成光学领域。该器件包括衬底1、键合层2、直波导4、介质层6、跑道型波导7,所述键合层2设置于衬底1上方,所述介质层6设置于键合层2上方,所述直波导4设置于介质层6中,所述跑道型波导7的直道部分在直波导4的正上方,其特征在于,还包括埋槽3,所述埋槽3设置于耦合区中的键合层2内,并位于直波导4的正下方,埋槽3的折射率小于衬底1的折射率。本发明中所采用埋槽结构,既可以减少光场在传输过程中的泄露损耗,又可以促使光场向其他介质转移,进而提高耦合效率,还具有在脊形波导中促进模式从多模向模式减少进行变化的优势。
搜索关键词: 一种 耦合 改进型 谐振器 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种耦合区改进型的微环谐振器,包括衬底1、键合层2、直波导4、介质层6、跑道型波导7,所述键合层2设置于衬底1上方,所述介质层6设置于键合层2上方,所述直波导4设置于介质层6中,所述跑道型波导7的直道部分在直波导4的正上方,其特征在于,还包括埋槽3,所述埋槽3设置于耦合区中的键合层2内,并位于直波导4的正下方,埋槽3的折射率小于衬底1的折射率。
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