[发明专利]氧化物光学元件化学机械抛光后残留物清洗剂及其制备方法在审
| 申请号： | 201811523905.1 | 申请日： | 2018-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN109576090A | 公开（公告）日： | 2019-04-05 |
| 发明（设计）人： | 方媛媛;黄海卫;王哲;顿爱欢;徐学科;贺洪波;邵建达 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所;上海恒益光学精密机械有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/26 | 分类号： | C11D7/26;C11D7/32;C11D7/60 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种氧化物光学元件化学机械抛光后残留物清洗剂，其配方是按照摩尔数配比：60％～70％无水乙醇、10～15％聚乙二醇，3％～5％乙二胺四乙酸，4％～10％六亚甲基四胺，3％～5％有机碱AMP95，2％～10％聚丙烯酸。本发明配方合理，该清洗剂不仅可以去除氧化铈，氧化铝，氧化硅等磨料颗粒残留，而且可以强效去除树脂、沥青酸酐和抛光液稳定剂等有机物残留，且不破坏面形精度，不腐蚀元件表面。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗剂 化学机械抛光 光学元件 氧化物 去除 配方 六亚甲基四胺 乙二胺四乙酸 有机物残留 腐蚀元件 聚丙烯酸 聚乙二醇 磨料颗粒 无水乙醇 摩尔数 抛光液 稳定剂 氧化硅 氧化铈 有机碱 氧化铝 树脂 面形 配比 制备 沥青 残留 | ||
【主权项】：
1.一种氧化物光学元件化学机械抛光后残留物清洗剂，其特征在于，该清洗剂摩尔数配比：60％～70％无水乙醇、10～15％聚乙二醇，3％～5％乙二胺四乙酸，4％～10％六亚甲基四胺，3％～5％有机碱AMP95和2％～10％聚丙烯酸。
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