[发明专利]基于覆盖折射率匹配层的偏振无关光栅及其制备方法有效
| 申请号： | 201811514560.3 | 申请日： | 2018-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN109491001B | 公开（公告）日： | 2021-06-04 |
| 发明（设计）人： | 张明骁;马平;卢忠文;蒲云体;乔曌;吕亮;邱服民 | 申请（专利权）人： | 成都精密光学工程研究中心 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人： | 阳佑虹 |
| 地址： | 610041 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种中心波长在近红外波段的高刻线密度、基于覆盖折射率匹配层的宽带偏振无关反射式介质光栅及其制备方法，涉及光学领域。所述光栅在熔石英衬底(1)上依次镀制有反射膜(2)和光栅功能层(3)。本发明提供的光栅结构针对TE模式和TM模式在利特罗角入射条件下在1050～1080nm带宽范围内的衍射效率高于98.5％，最高衍射效率超过99.5％，且具有比普通光栅更高的制备容差，可以实现偏振无关入射光的高效率衍射；另外可以利用全息曝光结合反应离子刻蚀的方法进行制备，利用原子层沉积所制备的折射率匹配层可以对光栅结构起到保护作用，提升光栅在高温高湿、激光辐照等特种工作环境条件下的稳定性，制备方法简单高效，在高功率激光领域中具有重要的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 覆盖 折射率 匹配 偏振 无关 光栅 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于覆盖折射率匹配层的偏振无关反射式介质光栅，其特征在于，所述光栅包括熔石英衬底(1)，在熔石英衬底(1)上依次镀制有反射膜(2)和光栅功能层(3)；所述光栅功能层(3)包括氧化物介质膜连接层(3‑1)、单层氧化物介质膜光栅层(3‑2)和折射率匹配层(3‑3)，且单层氧化物介质膜光栅层(3‑2)被刻蚀成光栅槽结构；所述反射膜(2)为折射率调控多层介质薄膜，周期数为14，其从下至上依次包括高折射率材料薄膜(2‑1)和低折射率材料薄膜(2‑2)。
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