[发明专利]一种声表面波滤波器的前道晶圆光刻方法在审
| 申请号： | 201811450864.8 | 申请日： | 2018-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN109799685A | 公开（公告）日： | 2019-05-24 |
| 发明（设计）人： | 掌庆冠;王绍安;张莉;李壮;韦鹏 | 申请（专利权）人： | 无锡市好达电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H03H9/02 |
| 代理公司： | 无锡华源专利商标事务所(普通合伙) 32228 | 代理人： | 聂启新 |
| 地址： | 214124 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种声表面波滤波器的前道晶圆光刻方法，属于声表面波滤波器制造领域。该方法包括制作水平掩膜版和垂直掩膜版，所述水平掩膜版上仅包括垂直线条，所述垂直掩膜版上仅包括水平线条，所述水平掩膜版上的垂直线条和所述垂直掩膜版上的水平线条共同构成光刻图形；利用所述水平掩膜版对晶圆曝光，利用所述垂直掩膜版对经过一次曝光的晶圆进行二次曝光；或，利用所述垂直掩膜版对晶圆曝光，利用所述水平掩膜版对经过一次曝光的晶圆进行二次曝光；解决了光刻曝光过程中无法同时满足水平方向和垂直方向都具有高分辨率的问题；达到了令光刻机无论在水平方向还是垂直方向都可以达到最优分辨率的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 晶圆 垂直 声表面波滤波器 垂直线条 二次曝光 水平线条 一次曝光 光刻曝光过程 高分辨率 光刻图形 曝光 分辨率 光刻机 制作 制造 | ||
【主权项】：
1.一种声表面波滤波器的前道晶圆光刻方法，其特征在于，所述方法包括：制作水平掩膜版和垂直掩膜版，所述水平掩膜版上仅包括垂直线条，所述垂直掩膜版上仅包括水平线条，所述水平掩膜版上的垂直线条和所述垂直掩膜版上的水平线条共同构成光刻图形；利用所述水平掩膜版对晶圆曝光，利用所述垂直掩膜版对经过一次曝光的晶圆进行二次曝光；或，利用所述垂直掩膜版对晶圆曝光，利用所述水平掩膜版对经过一次曝光的晶圆进行二次曝光。
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