[发明专利]陶瓷涂层表面微坑制备装置及陶瓷涂层表面微坑的制备方法在审

专利信息
申请号: 201811440375.4 申请日: 2018-11-28
公开(公告)号: CN109317816A 公开(公告)日: 2019-02-12
发明(设计)人: 王岳亮;马文有;刘敏;李福海;董东东;周克崧 申请(专利权)人: 广东省新材料研究所
主分类号: B23K26/00 分类号: B23K26/00;B23K26/362;B23K26/70
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 贾颜维
地址: 510000 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供了一种陶瓷涂层表面微坑制备装置及陶瓷涂层表面微坑的制备方法,属于陶瓷涂层加工技术领域。该装置包括激光辐照控制单元以及与主控计算机连接的透镜聚焦系统、光束质量监控系统、高分辨成像系统。透镜聚焦系统设于激光辐照控制单元的一侧,光束质量监控系统设于透镜聚焦系统的远离激光辐照控制单元的一侧。高分辨成像系统设于光束质量监控系统的远离透镜聚焦系统的一侧。该装置结构简单,可实现激光加工参数的实时数字化记录,以及实时原位获取制备的陶瓷涂层表面微坑清晰形貌,解决陶瓷涂层表面微坑加工过程中监控记录及反馈调节问题,从而高效制备陶瓷涂层表面微坑。陶瓷涂层表面微坑制备方法简单,操作容易,效率高。
搜索关键词: 陶瓷涂层表面 微坑 透镜聚焦 制备 质量监控系统 激光辐照 高分辨成像 制备装置 激光加工参数 加工技术领域 数字化记录 主控计算机 形貌 反馈调节 高效制备 监控记录 实时原位 陶瓷涂层 装置结构 清晰
【主权项】:
1.一种陶瓷涂层表面微坑制备装置,其特征在于,所述陶瓷涂层表面微坑制备装置包括激光辐照控制单元、透镜聚焦系统、光束质量监控系统、高分辨成像系统以及主控计算机;所述主控计算机分别与所述光束质量监控系统、所述透镜聚焦系统以及所述高分辨成像系统信号连接;所述激光辐照控制单元用于产生脉冲激光,所述透镜聚焦系统设置于所述激光辐照控制单元的一侧并用于聚焦由所述激光辐照控制单元产生的脉冲激光,所述光束质量监控系统设置于所述透镜聚焦系统的远离所述激光辐照控制单元的一侧并用于将由所述透镜聚焦系统聚焦后发出的激光射于待加工样品表面,同时将待加工样品表面的激光光束信息传输至所述主控计算机;所述激光光束信息包括激光光束质量和/或激光光斑大小;所述高分辨成像系统设置于所述光束质量监控系统的远离所述透镜聚焦系统的一侧并用于将所述待加工样品表面的微坑的形貌信息传输至所述主控计算机。
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