[发明专利]一种直写式光刻机光均匀性标定方法及系统有效
| 申请号： | 201811417241.0 | 申请日： | 2018-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN109581824B | 公开（公告）日： | 2021-01-08 |
| 发明（设计）人： | 李智 | 申请（专利权）人： | 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 | 代理人： | 奚华保 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种直写式光刻机光均匀性标定方法及系统，属于光刻机光学调制技术领域，包括其用于对图形发生器与光路系统以及移动平台之间的光均匀性误差进行标定，光路系统的光路上布置CCD相机，包括如下步骤：制作用于DMD曝光的单位图形，该单位图形包括标尺图和全白图；对单位图形进行曝光处理，得到初始曝光图形；对初始曝光图形进行整合处理，得到光均匀性灰度模板；利用所述光均匀性灰度模板实现投放任意单位图。本发明通过标定光均匀性灰度模板，并将其加载到曝光系统中，使得最终曝光的图形的光均匀性得到了明显的改善。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 直写式 光刻 均匀 标定 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种直写式光刻机光均匀性标定方法，其特征在于，其用于对图形发生器与光路系统以及移动平台之间的光均匀性误差进行标定，包括如下步骤：制作用于DMD曝光的单位图形，该单位图形包括标尺图和全白图；对单位图形进行曝光处理，得到初始曝光图形；对初始曝光图形进行整合处理，得到光均匀性灰度模板；利用所述光均匀性灰度模板实现投放任意单位图。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥芯碁微电子装备股份有限公司，未经合肥芯碁微电子装备股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811417241.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
