[发明专利]一种大气压低温等离子体片状薄膜处理设备和操作方法

摘要

本发明提供了一种大气压低温等离子体片状薄膜处理设备，还包括机架，机架被放电部分分割成左右两部分，右部分为封闭的空间，左部分为开放空间，处理平台原始状态为在左部分，处理平台下方的一侧设有第一导杆，下方另一侧设有第二导杆，第一导杆被第一导杆支架支撑，第二导杆被第二导杆支架支撑，处理平台的下方，第一导杆和第二导杆的中间位置设有丝杆，丝杆带动处理平台左右平移，丝杆和电机连接，电机设置在右部分，右部分的右侧内框设有排气口。本发明采用低温等离子体表面改性技术通过等离子体处理后，处理效果高，均匀性好，温度低，并能够在材料表面形成活性分子，并且外观不受影响，无污染。

主权项

1.一种大气压低温等离子体片状薄膜处理设备，包括电极（4）和处理平台（1），所述的处理平台（1）位于电极（4）的下方，其特征在于：所述的电极（4）设置在放电部分（23）内，还包括机架（6），所述的机架（6）被放电部分（23）分割成左右两部分，所述的右部分为封闭的空间，左部分为开放空间，所述的处理平台（1）原始状态为在左部分，所述处理平台（1）下方的一侧设有第一导杆（15），下方另一侧设有第二导杆（21），第一导杆（15）被第一导杆支架（16）支撑，第二导杆（21）被第二导杆支架（22）支撑，所述的处理平台（1）的下方，第一导杆（15）和第二导杆（21）的中间位置设有丝杆（3），所述的第一导杆（15）、第二导杆（21）、丝杆（3）长度相等，都是一半在左部分，一半在右部分，所述的丝杆（3）带动处理平台（1）左右平移，所述的丝杆（3）和电机（2）连接，所述的电机（2）设置在右部分，所述的右部分的右侧内框设有排气口（5）。