[发明专利]利用具有补偿的光信号来执行掩模图案测量的系统和方法在审
| 申请号： | 201811376093.2 | 申请日： | 2018-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN110109322A | 公开（公告）日： | 2019-08-09 |
| 发明（设计）人： | 罗志勋;李东根;金熙范 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/84 | 分类号： | G03F1/84 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 刘润蓓;尹淑梅 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供了一种利用具有补偿的光信号来执行掩模图案测量的系统和方法，所述系统包括：板，构造为用于在其上安装反射极紫外(EUV)掩模；以及波带片，构造为将EUV光分为零级光和第一级光，并构造为使零级光和第一级光传输到反射EUV掩模。系统还包括：检测器，构造为接收由反射EUV掩模反射的EUV光，并包括构造为产生第一图像信号的零级光检测区域和构造为产生第二图像信号的第一级光检测区域；以及计算器，构造为从第一图像信号和第二图像信号产生补偿的第三图像信号。第三图像信号可以用于确定反射EUV掩模的掩模图案之间的距离。 | ||
| 搜索关键词： | 图像信号 反射 掩模图案 第一级 零级光 测量 检测器 图像信号产生 光检测区域 计算器 检测区域 波带片 反射极 光传输 掩模 | ||
【主权项】：
1.一种系统，所述系统包括：板，构造为用于在其上安装反射极紫外掩模；波带片，构造为将极紫外光分为零级光和第一级光，并构造为使零级光和第一级光传输到反射极紫外掩模；检测器，构造为接收被反射极紫外掩模反射的极紫外光，并包括构造为产生第一图像信号的零级光检测区域和构造为产生第二图像信号的第一级光检测区域；以及计算器，构造为从第一图像信号和第二图像信号产生补偿的第三图像信号。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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