[发明专利]一种基于双模式的太赫兹波高灵敏度成像装置在审

专利信息
申请号: 201811305989.1 申请日: 2018-11-05
公开(公告)号: CN109444084A 公开(公告)日: 2019-03-08
发明(设计)人: 徐德刚;武丽敏;王与烨;姚建铨 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: G01N21/552 分类号: G01N21/552
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 李林娟
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明公开了一种基于双模式的太赫兹波高灵敏度成像装置,包括:反射窗口及全反射棱镜,用于反射成像模式和全反射成像模式的快速切换;太赫兹波经过平面反射镜的反射被第一离轴抛物面镜接收并聚焦入射到反射窗口(或全反射棱镜)表面上;样品放置在反射窗口(或全反射棱镜)的底面;携带样品信息的太赫兹波经反射窗口(或全反射棱镜)反射被第二离轴抛物面镜接收;携带样品信息的太赫兹波经第二离轴抛物面镜接收后被第三离轴抛物面镜接收并聚焦入太赫兹波探测器。
搜索关键词: 反射 太赫兹波 离轴抛物面镜 全反射棱镜 成像装置 高灵敏度 样品信息 双模式 太赫兹波探测器 聚焦 平面反射镜 成像模式 反射成像 快速切换 样品放置 携带 全反射 底面 入射
【主权项】:
1.一种基于双模式的高灵敏度太赫兹波成像装置,其特征在于,太赫兹波平面反射镜、第一太赫兹离轴抛物面镜、第二太赫兹离轴抛物面镜与第三太赫兹离轴抛物面镜依次设置在太赫兹波的出射光路上;反射成像窗口及全反射成像棱镜的底面被置于第一太赫兹离轴抛物面镜和第二太赫兹离轴抛物面镜的水平焦平面上;透过反射成像窗口的入射太赫兹波入射到样品,经样品反射后,携带样品信息的太赫兹波再次经过反射成像窗口后被第二太赫兹波离轴抛物面镜聚焦并接收,获得反射成像,进而得到样品的大概图像及样品成像区域;太赫兹波经第一太赫兹离轴抛物面镜聚焦后以一定的角度,入射到全反射成像棱镜的一个侧面上,太赫兹波在垂直全反射成像棱镜底面的方向产生倏逝波;倏逝波垂直入射到样品进行相互作用,携带样品信息的太赫兹波在全反射成像棱镜的另一个侧面出射,出射后的太赫兹波被第二太赫兹离轴抛物面镜收集并接收,并通过太赫兹波平面反射镜反射,入射到太赫兹探测器,以获得样品的全反射成像结果,进而获得样品的详细信息。
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