[发明专利]微光刻掩模、确定其结构的像的边缘位置的方法及系统

摘要

出于测量微光刻掩模(1)的结构(7)的目的，一种捕获在掩模(1)上的结构的绝对位置的方法和一种确定对将要成像的结构(7)的像的位置、或限定该结构的边缘的位置的取决于结构和/或取决于照明的贡献的方法彼此组合。因此，确立与晶片的曝光相关的边缘放置误差，因此可以实质上改进掩模(1)的特征。

主权项

1.一种微光刻掩模(1)，包括：1.1至少一个度量标记，包括：1.1.1至少一个锚定元件(4)，所述掩模(1)上的所述至少一个锚定元件(4)的全局位置数据通过用第一测量波长(λ1)的光学方法来确定，和1.1.2至少一个测试结构(7)，所述至少一个测试结构(7)包括在使用所述掩模(1)时以成像波长(λ2)处的辐射成像在晶片上的结构元件，1.2其中所述测试结构(7)的结构元件具有距所述至少一个锚定元件(4)的最大距离，所述距离不大于所述掩模(1)的侧边长的十分之一。