[发明专利]二维拓扑绝缘体及其制备方法和应用有效
申请号: | 201811269359.3 | 申请日: | 2018-10-29 |
公开(公告)号: | CN109411534B | 公开(公告)日: | 2022-04-01 |
发明(设计)人: | 胡军;齐灿;欧阳丽颖 | 申请(专利权)人: | 苏州大学 |
主分类号: | H01L29/66 | 分类号: | H01L29/66 |
代理公司: | 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 | 代理人: | 殷海霞 |
地址: | 215000 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: |
本发明公开了一种二维拓扑绝缘体,所述二维拓扑绝缘体是以Al |
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搜索关键词: | 二维 拓扑 绝缘体 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
1.一种二维拓扑绝缘体,其特征在于,所述二维拓扑绝缘体是以Al2O3(0001)面为衬底生长的蜂窝状III‑V族化合物单层膜。
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