[发明专利]垂直腔面发射激光器的像素结构及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201811244074.4 申请日: 2018-10-24
公开(公告)号: CN108923261B 公开(公告)日: 2019-01-29
发明(设计)人: 梁栋;霍轶杰;刘嵩 申请(专利权)人: 常州纵慧芯光半导体科技有限公司
主分类号: H01S5/42 分类号: H01S5/42;G09F9/33
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 罗泳文
地址: 213000 江苏省常州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种垂直腔面发射激光器的像素结构及其制作方法,所述垂直腔面发射激光器具有一发射窗口,所述像素结构包括在所述发射窗口内形成的若干具有光线出射的亮区子像素以及若干不具有光线出射的暗区子像素,且所述亮区子像素与所述暗区子像素在所述发射窗口内排布成图案。相比现有的结构光模组方案和编码结构光模组方案,本发明可以在维持一定信息密度的情况下有效降低结构光和编码结构光整体光学模组的能耗及制造成本,或者在同样的成本和能耗下达到更高的信息密度和可辨识度。本发明在垂直腔面发射激光器的制造及应用领域具有广泛的应用前景。
搜索关键词: 垂直腔面发射激光器 子像素 发射窗口 像素结构 模组 编码结构光 光线出射 结构光 暗区 亮区 能耗 可辨识度 整体光学 制造成本 排布 制作 图案 应用 制造
【主权项】:
1.一种垂直腔面发射激光器的像素结构,其特征在于,所述垂直腔面发射激光器具有一发射窗口,所述像素结构包括在所述发射窗口内形成的若干具有光线出射的亮区子像素以及若干不具有光线出射的暗区子像素,且所述亮区子像素与所述暗区子像素在所述发射窗口内排布成图案,其中,所述暗区子像素在所述垂直腔面发射激光器中以图形化的沟道及自所述沟道的侧壁朝所述垂直腔面发射激光器内部延伸的限制氧化层的方式限定,所述沟道及所述限制氧化层用以切断相应区域的所述垂直腔面发射激光器的电流路径而形成所述暗区子像素。
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