[发明专利]一种长效防护的液态自分泌超滑涂层及制备方法在审
| 申请号： | 201811241747.0 | 申请日： | 2018-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN109453966A | 公开（公告）日： | 2019-03-12 |
| 发明（设计）人： | 张达威;吴德权;刘卓一;刘智鹏;李晓刚 | 申请（专利权）人： | 北京科技大学 |
| 主分类号： | B05D1/00 | 分类号： | B05D1/00;B05D1/18;B05D3/10;B05D5/00;B05D7/04;B05D7/24 |
| 代理公司： | 北京市广友专利事务所有限责任公司 11237 | 代理人： | 张仲波 |
| 地址： | 100083*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种长效防护的液态自分泌超滑涂层及制备方法，属于防腐蚀、防污损、防覆冰等领域。涂层主体为弹性多孔膜层，分为底层、上层、及表层。底层为大孔径结构，孔隙率高达60％～95％，孔径范围100μm～2000μm，提高储油量；上层孔径范围10nm～100μm，厚度为50μm～1000μm，防止油液流失过快，控制分泌过程；表层为微纳级凸起结构，粗糙度10nm～50μm，起到疏液储油作用。润滑油贮存于多孔结构中，当表层油干涸时，可通过上层小孔逐渐扩散至表层，形成液态防护油膜。润滑油中添加的缓蚀剂、杀菌剂等随油释放，增强涂层防护功能。当环境水流冲击、外力挤压、摩擦等导致表层油膜丧失时，外力作用也会促进弹性多孔结构形变分泌油质，保持表面形成稳定油层，显著延长涂层使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 分泌 长效防护 超滑涂层 多孔结构 上层 表层油 制备 储油量 润滑油贮存 表面形成 多孔膜层 环境水流 凸起结构 涂层防护 涂层使用 外力挤压 外力作用 油层 粗糙度 大孔径 防腐蚀 防覆冰 防护油 防污损 缓蚀剂 孔隙率 润滑油 杀菌剂 形变 储油 疏液 小孔 油液 油质 干涸 摩擦 扩散 释放 | ||
【主权项】：
1.一种长效防护的液态自分泌超滑涂层，其特征在于，涂层主体为弹性多孔膜层，分为底层、上层、及表层；底层孔隙率高达60％～95％，孔径范围100μm～2000μm；上层孔径范围10nm～100μm，厚度为50μm～1000μm；表层呈现微纳级粗糙，粗糙度10nm～50μm，厚度50nm～50μm。
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- 本发明涉及一种扩散源涂覆装置。扩散源涂覆装置用于涂覆样品，包括旋转机构、固定架、支架和喷嘴阵列，旋转机构与固定架连接，支架与旋转机构连接，喷嘴阵列与支架连接，喷嘴阵列包括多个喷嘴，多个喷嘴均设置于支架上，扩散源涂覆装置对样品进行涂覆时，旋转机构带动支架旋转，使设置在支架上的喷嘴旋转对样品进行扩散源涂覆。上述扩散源涂覆装置能提高涂覆效果和加工效率，节约扩散源材料、降低工艺成本。
- 一种高精度匀胶机气流控制稳定成膜方法-201810201745.2
- 宣海;曹喜喜;汪竹;魏益波 - 江苏雷博科学仪器有限公司
- 2018-03-12 - 2018-09-28 - B05D1/00
- 本发明一种高精度匀胶机气流控制稳定成膜方法，步骤1、放基片；步骤2、加热旋转载物盘的盘面到达指定温度后开始旋转，气流在加热旋转载物盘的旋转带动下由加热旋转载物盘的周边开始旋转下沉；步骤3、下沉后的气流在旋涂内腔中旋转减弱后，在旋涂内腔内环流至上盖的下方后，气流经过导流台阶减弱后在锥形面的引导下吹向上盖顶部的排气孔；步骤4、排气孔排出部分气体后最终残留在加热旋转腔内的气流由上盖的上方再次吹向加加热旋转载物盘的盘面，辅助匀胶机将表面的胶液甩开。本发明一种高精度匀胶机气流控制稳定成膜方法，其能够对匀胶机内气流进行控制以提高成膜质量。
- 一种于电子墨水屏上形成防护涂层的工艺-201810382452.9
- 钟伟兴 - 东莞新劲电子有限公司
- 2018-04-26 - 2018-09-28 - B05D1/00
- 本发明公开了一种于电子墨水屏上形成防护涂层的工艺，其包括以下步骤：步骤1，对电子墨水屏的金手指进行包覆遮盖；步骤2，烘烤驱潮，去除电子墨水屏上的潮气，于50～60℃下，烘烤2～3h；步骤3，用夹扣夹住电子墨水屏金手指处的包覆物，将夹扣挂于金属架子上，将金属架子放入涂覆机中；步骤4，投料，进行气相沉积涂覆。本发明工艺简单，能够与电子墨水屏的表面形成厚度均匀、致密无针孔、透明无应力、不含助剂、不损坏工件、有优异的电绝缘性和防护性的薄膜涂层，具有防潮、防霉、防腐、防水、防盐雾、防静电或防氧化等防护作用，延长电子墨水屏的使用寿命。
- 一种半导体刻蚀腔体用梯度陶瓷溶射层的制备方法-201810266789.3
- 何新玉;贺贤汉 - 上海申和热磁电子有限公司
- 2018-03-28 - 2018-09-21 - B05D1/00
- 本发明提供半导体刻蚀腔体用梯度陶瓷溶射层的制备方法，结合YF3和氧化钇材料各自的优缺点，使用等离子溶射在部件基体上制备一层氧化钇过渡层，然后在氧化钇过渡层上使用等离子溶射制备一层YF3耐腐蚀工作层。实现溶射层整体结合力达到8MPa以上，同时具有优异的耐高功率F系和Cl系等离子气体冲蚀性能，达到栅极特征线宽28nm以下制程工艺对刻蚀腔体使用寿命及particle的要求。
- 一种无机卤素钙钛矿薄膜的制备方法-201710116487.3
- 胡延强;张树芳;苗晓亮;邱婷;白帆;张陈明 - 南京理工大学
- 2017-03-01 - 2018-09-14 - B05D1/00
- 本发明公开了一种无机钙钛矿薄膜的制备方法。所述方法具体为：在80～100℃下，在洁净的底电极表面喷涂钙钛矿前驱液CsPbBr3，将沉积有钙钛矿CsPbBr3的底电极边旋涂边滴加不良溶剂，在250～300℃下进行退火处理，得到无机钙钛矿薄膜。本发明在喷涂法制备的CsPbBr3钙钛矿薄膜的旋涂过程中滴加不良溶剂，通过改变不良溶剂中丁酸和甲苯的比例关系，控制CsPbBr3薄膜中的晶粒形貌，提高了CsPbBr3薄膜的稳定性，同时使其具备优异的阻变性能，在忆阻器领域应用广泛。
- 制造经涂布的基底的方法、经涂布的基底及其用途、以及用于制造经涂布的基底的系统-201680052863.0
- 马蒂亚斯·科赫 - HEC高端涂料有限公司
- 2016-07-13 - 2018-08-03 - B05D1/00
- 本发明涉及用于制造经涂布的非金属基质，尤其是塑料基质的方法；所述方法包括使用应用系统来应用至少一层金属层，使用至少一种有机硅化合物处理所得到的金属层，尤其是使用等离子聚合进行处理，以形成聚硅氧烷层，对于所述聚硅氧烷层使用等离子发生器进行等离子加工和/或进行电晕处理，以及将外涂层、尤其是透明外涂层应用至经处理的聚硅氧烷层。本发明还涉及用于制造经涂布的金属基质的方法；所述方法包括使用应用系统来应用至少一层金属层，使用至少一种有机硅化合物处理金属层，尤其是使用等离子聚合进行处理，以形成聚硅氧烷层，对于所述聚硅氧烷层使用等离子生成器进行等离子加工和/或进行电晕处理，并将外涂层、尤其是透明外涂层应用至经处理的聚硅氧烷层。另外，本发明涉及根据所公开的方法可获得的或能够获得的非金属基质，以及根据所公开的方法可获得的或能够获得的金属基质。最后本发明涉及用于应用金属层的应用系统以及所公开的基质的用途。
- 专利分类
